| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-4页 |
| 目录 | 第4-6页 |
| 1．结论 | 第6-17页 |
| 1．1 研究的背景、目的 | 第6-7页 |
| 1．2 MCP防离子反馈膜的发展 | 第7-15页 |
| 1．2．1 MCP防离子反馈膜的功用 | 第7-9页 |
| 1．2．2 自持摸的工艺和性能 | 第9-12页 |
| 1．2．3 MCP防离子反馈膜的工艺和性能 | 第12-15页 |
| 1．3 作者主要内容简介 | 第15-17页 |
| 2．MCP防离子反馈膜的制备原理 | 第17-23页 |
| 2．1 引言 | 第17页 |
| 2．2 掩膜和防离子反馈膜层的选择 | 第17-19页 |
| 2．2．1 掩膜的选择 | 第17-18页 |
| 2．2．2 防离子反馈膜层的选择 | 第18-19页 |
| 2．3 薄膜制备技术和制备方法 | 第19-21页 |
| 2．4 掩膜脱除方法比较研究 | 第21-22页 |
| 2．5 讨论 | 第22-23页 |
| 3．实验、测试和讨论 | 第23-33页 |
| 3．1 引言 | 第23页 |
| 3．2 超薄连续膜的特性及测量 | 第23-28页 |
| 3．2．1 超薄连续膜厚度的测量方法 | 第23页 |
| 3．2．2 薄膜的电子透过特性及死电压的确定 | 第23-25页 |
| 3．2．3 膜层的离子透过特性 | 第25-26页 |
| 3．2．4 膜层的均匀性 | 第26-27页 |
| 3．2．5 薄膜的成份分析 | 第27-28页 |
| 3．3 带膜MCP的特性及测量 | 第28-31页 |
| 3．3．1 电子增益 | 第29页 |
| 3．3．2 体电阻 | 第29页 |
| 3．3．3 暗电流 | 第29页 |
| 3．3．4 探测效率 | 第29-31页 |
| 3．4 MCP防离子反馈膜制膜工艺失败对MCP性能的影响 | 第31-32页 |
| 3．5 小结 | 第32-33页 |
| 4．防离子反馈膜性能的理论分析 | 第33-40页 |
| 4．1 引言 | 第33页 |
| 4．2 防离子反馈膜的电子透过机理 | 第33-36页 |
| 4．3 防离子反馈膜的离子阻挡机理 | 第36-39页 |
| 4．4 小结 | 第39-40页 |
| 5．MCP防离子反馈膜制备新方法的探索 | 第40-47页 |
| 5．1 引言 | 第40页 |
| 5．2 MCP防离子反馈膜的贴膜原理 | 第40-44页 |
| 5．2．1 自持连续有机衬底的制备原理 | 第40页 |
| 5．2．2 防离子反馈膜的制备原理 | 第40-41页 |
| 5．2．3 MCP防离子反馈膜的贴膜原理 | 第41-44页 |
| 5．3 MCP防离子反馈膜的成分及带膜MCP的性能 | 第44-46页 |
| 5．4 小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |