EACVD金刚石膜设备的控制技术及实验研究
| 第一章 绪论 | 第1-17页 |
| ·CVD金刚石膜技术的发展 | 第9-10页 |
| ·CVD金刚石膜的分类与制备 | 第10-13页 |
| ·CVD金刚石膜的分类 | 第10-11页 |
| ·CVD金刚石膜的制备方法 | 第11-12页 |
| ·工艺参数对制备CVD金刚石膜的影响 | 第12-13页 |
| ·EACVD金刚石膜生长设备的自动控制 | 第13-15页 |
| ·EACVD金刚石生备自动控制技术研究的重要性 | 第13-14页 |
| ·模糊控制理论的研究状况 | 第14-15页 |
| ·本文的研究意义和主要工作 | 第15-17页 |
| 第二章 控制模型的研究 | 第17-31页 |
| ·EACVD金刚石生长系统的特性分析 | 第17页 |
| ·衬底温度场控制模型的确定 | 第17-19页 |
| ·控制方案的确定 | 第17-18页 |
| ·控制算法的确定 | 第18-19页 |
| ·衬底温度场模糊控制器的建立 | 第19-29页 |
| ·模糊控制器的结构设计 | 第19-24页 |
| ·精确量的模糊化方法 | 第24-25页 |
| ·模糊控制表的确定 | 第25-28页 |
| ·模糊量的清晰化方法 | 第28-29页 |
| ·PID控制器的设计 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 控制系统的硬件设计 | 第31-42页 |
| ·控制系统硬件的总体方案选择 | 第31-32页 |
| ·方案确定 | 第31页 |
| ·控制系统的硬件构成 | 第31-32页 |
| ·传感器的设计 | 第32-36页 |
| ·衬底、热丝温度传感器 | 第33-34页 |
| ·气体流量传感器 | 第34-35页 |
| ·气压传感器 | 第35页 |
| ·热丝电流互感器 | 第35-36页 |
| ·下位机的选择 | 第36-37页 |
| ·通信协议的设定及协议转换设备选择 | 第37-39页 |
| ·RS-232／RS-422／RS-485标准 | 第37-38页 |
| ·协议转换设备的选择 | 第38-39页 |
| ·上位机的选择 | 第39页 |
| ·控制卡的选择 | 第39-40页 |
| ·变压器、功率控制器的设计 | 第40-41页 |
| ·变压器的设计 | 第40页 |
| ·功率控制器的设计 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 控制系统的软件设计 | 第42-52页 |
| ·软件平台选择 | 第42-43页 |
| ·软件结构总体设计 | 第43-44页 |
| ·参数设置与修改 | 第44-45页 |
| ·信号采集与监测 | 第45-46页 |
| ·信号采集方式 | 第45页 |
| ·通信数据约定 | 第45-46页 |
| ·采样周期的确定 | 第46页 |
| ·信号的监测与报警 | 第46页 |
| ·数据与日志存储 | 第46-47页 |
| ·曲线显示 | 第47-48页 |
| ·信号控制 | 第48-49页 |
| ·控制周期的确定 | 第48页 |
| ·信号软件滤波 | 第48-49页 |
| ·控制算法流程 | 第49页 |
| ·软件的开放性和可靠性 | 第49-50页 |
| ·软件的人机交互界面 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 控制效果分析与比较 | 第52-62页 |
| ·金刚石膜生长设备的性能 | 第52页 |
| ·金刚石膜的生长过程 | 第52-55页 |
| ·碳化阶段 | 第53-54页 |
| ·成核、生长阶段 | 第54-55页 |
| ·金刚石膜的质量 | 第55-57页 |
| ·金刚石膜的生长速度 | 第57页 |
| ·计算机控制下EACVD金刚石膜的生长 | 第57-61页 |
| ·金刚石厚膜的生长 | 第57-58页 |
| ·掺杂金刚石生长 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 总结与展望 | 第62-64页 |
| ·总结 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
