第一章 光催化剂TiO_2薄膜研究进展 | 第1-33页 |
1 光催化剂TiO_2薄膜的应用前景 | 第12-16页 |
1.1 空气净化 | 第12页 |
1.2 光降解废水中的有机污染物 | 第12-13页 |
1.3 杀菌 | 第13页 |
1.4 无机废水的处理 | 第13-14页 |
1.5 水面油污的处理 | 第14页 |
1.6 TiO_2在建材领域的应用 | 第14-15页 |
1.6.1 TiO_2在陶瓷方面的应用 | 第14页 |
1.6.2 TiO_2在玻璃方面的应用 | 第14-15页 |
1.6.3 TiO_2在水泥和混凝土方面的应用 | 第15页 |
1.6.4 光催化涂料 | 第15页 |
1.6.5 光催化墙纸 | 第15页 |
1.6.6 塑料门窗及钢门窗 | 第15页 |
1.7 TiO_2表面的超亲水及应用 | 第15-16页 |
2 TiO_2薄膜的光催化原理 | 第16-20页 |
3 影响光催化剂TiO_2薄膜活性的因素 | 第20-27页 |
3.1 催化剂结构对光催化活性的影响 | 第21-23页 |
3.1.1 晶相结构的影响 | 第21页 |
3.1.2 粒径的影响 | 第21-23页 |
3.1.3 表面羟基的影响 | 第23页 |
3.2 外加组分对催化剂性能的影响 | 第23-25页 |
3.2.1 促进光生电子和空穴的分离 | 第23-24页 |
3.2.2 增加表面活性中心的数量 | 第24页 |
3.2.3 TiO_2表面超强酸化 | 第24页 |
3.2.4 外场效应的影响 | 第24-25页 |
3.3 光催化反应体系的工艺条件 | 第25-27页 |
3.3.1 载体的影响 | 第25页 |
3.3.2 常用载体 | 第25-26页 |
3.3.3 负载方法 | 第26页 |
3.3.4 其它工艺条件 | 第26-27页 |
3.4 反应器的结构 | 第27页 |
4 本文研究内容 | 第27-29页 |
参考文献 | 第29-33页 |
第二章 偏钛酸为原料TiO_2薄膜合成、结构及光催化性能研究 | 第33-50页 |
1 引言 | 第33页 |
2 以偏钛酸为原料TiO_2溶胶的合成及性质 | 第33-38页 |
2.1 实验步骤 | 第33页 |
2.2 实验结果及讨论 | 第33-38页 |
2.2.1 工艺条件对TiO_2水溶胶透光率的影响 | 第33-35页 |
2.2.2 TiO_2水溶胶的性质 | 第35-38页 |
3 偏钛酸为前躯体TiO_2薄膜的研究 | 第38-47页 |
3.1 TiO_2薄膜的制备 | 第38页 |
3.1.1 基质-载玻片的预处理 | 第38页 |
3.1.2 TiO_2薄膜的制备 | 第38页 |
3.2 结果与讨论 | 第38-47页 |
3.2.1 不同涂层TiO_2薄膜厚度 | 第38-39页 |
3.2.2 不同涂层的TiO_2薄膜微结构分析 | 第39-41页 |
3.2.3 TiO_2薄膜表面及断面形貌 | 第41-42页 |
3.2.4 薄膜的紫外可见光透光率 | 第42-43页 |
3.2.5 X射线光电子能谱 | 第43-46页 |
3.2.6 TiO_2薄膜光催化活性评价 | 第46-47页 |
4 小结 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-50页 |
第三章 煅烧温度对以偏钛酸为原料制备的TiO_2微结构及相变的影响 | 第50-62页 |
1 引言 | 第50页 |
2 实验及计算方法 | 第50-52页 |
2.1 TiO_2前躯体合成 | 第50页 |
2.2 煅烧过程 | 第50页 |
2.3 X-射线衍射和XRD数据分析过程 | 第50-52页 |
3 结果与讨论 | 第52-60页 |
3.1 TiO_2结构分析 | 第52-54页 |
3.2 煅烧过程中TiO_2相变 | 第54-57页 |
3.3 TiO_2微结构表征 | 第57-60页 |
4 小结 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-62页 |
第四章 以Ti(OC_4H_9)_4为原料TiO_2薄膜的研究 | 第62-72页 |
1 引言 | 第62页 |
2 实验 | 第62-63页 |
2.1 TiO_2有机溶胶的制备 | 第62页 |
2.2 TiO_薄膜的制备 | 第62-63页 |
2.3 薄膜光催化性能修饰改性 | 第63页 |
2.3.1 掺锡TiO_2薄膜制备 | 第63页 |
2.3.2 表面酸处理的TiO_2薄膜制备 | 第63页 |
2.4 光催化性能实验 | 第63页 |
3 结果与讨论 | 第63-70页 |
3.1 成膜效果 | 第63-64页 |
3.2 薄膜的牢固性 | 第64页 |
3.3 不同涂层的TiO_2薄膜SEM表面形貌及断面形貌 | 第64-67页 |
3.4 溶胶和粉末的红外光谱 | 第67-68页 |
3.5 光催化活性 | 第68-70页 |
3.5.1 涂膜次数对光催化活性的影响 | 第68-69页 |
3.5.2 光催化性能修饰实验 | 第69-70页 |
4 小结 | 第70页 |
参考文献 | 第70-72页 |
第五章 紫外光及微波处理的TiO_2薄膜光催化活性. | 第72-81页 |
1 引言 | 第72页 |
2 实验 | 第72-73页 |
2.1 紫外光辐射和微波辐射的TiO_2薄膜制备 | 第72-73页 |
2.1.1 紫外光处理的TiO_2薄膜制备 | 第72页 |
2.1.2 微波处理的TiO_2薄膜制备 | 第72-73页 |
2.2 光催化实验 | 第73页 |
3 薄膜测试方法与原理 | 第73页 |
4 结果及讨论 | 第73-79页 |
4.1 TiO_2薄膜的XRD图谱 | 第74-75页 |
4.2 紫外光辐射和微波辐射TiO_2薄膜X射线光电子能谱 | 第75-77页 |
4.3 紫外光辐射和微波辐射TiO_2薄膜光催化活性 | 第77-79页 |
4.4 三种处理方式比较 | 第79页 |
5 小结 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-81页 |
第六章 Cu~(2+)掺杂对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第81-98页 |
1 引言 | 第81页 |
2 实验 | 第81-83页 |
2.1 掺铜的TiO_2纳米结构膜制备 | 第81-82页 |
2.1.1 TiO_2纳米结构膜制备 | 第81-82页 |
2.1.2 掺铜的TiO_2纳米结构膜制备 | 第82页 |
2.2 掺铜的TiO_2薄膜光催化性能检测 | 第82-83页 |
2.3 薄膜表征方法与原理 | 第83页 |
3 结果与讨论 | 第83-96页 |
3.1 物相分析(XRD) | 第83-85页 |
3.2 掺铜的TiO_2薄膜表面形貌及断面形貌 | 第85-88页 |
3.3 掺铜的TiO_2薄膜XPS分析 | 第88-91页 |
3.4 Cu~(2+)掺杂对TiO_2光催化活性的影响 | 第91-96页 |
4 小结 | 第96页 |
参考文献 | 第96-98页 |
第七章 预涂SiO_2的TiO_2薄膜光催化活性与结构研究 | 第98-112页 |
1 引言 | 第98页 |
2 实验 | 第98-99页 |
2.1 预涂SiO_2的TiO_2薄膜制备 | 第98页 |
2.1.1 SiO_2溶胶的制备 | 第98页 |
2.1.2 预涂SiO_2的TiO_2纳米结构膜制备 | 第98页 |
2.2 薄膜光催化性能检测 | 第98-99页 |
3 结果与讨论 | 第99-109页 |
3.1 物相分析 | 第99-100页 |
3.2 预涂SiO_2的Ti为_2薄膜SEM表面及断面形貌 | 第100-101页 |
3.3 预涂SiO_2的TiO_2薄膜XPS分析 | 第101-107页 |
3.4 预涂SiO_2的TiO_2薄膜光催化活性 | 第107-109页 |
4 小结 | 第109-110页 |
参考文献 | 第110-112页 |
第八章 结论 | 第112-114页 |
在读期间发表论文目录 | 第114-115页 |
声明 | 第115-116页 |
致谢 | 第116页 |