微弧氧化工艺在复杂铝合金工件上的应用研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·微弧氧化技术概况 | 第8-9页 |
| ·微弧氧化技术 | 第8-9页 |
| ·微弧氧化的发展概况 | 第9页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的性能 | 第9-11页 |
| ·微弧氧化的应用 | 第11-13页 |
| ·本课题研究的目的、意义 | 第13页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第13-14页 |
| 第二章 微弧氧化的理论基础 | 第14-30页 |
| ·铝、铝合金及氧化铝 | 第14-17页 |
| ·铝及铝合金的一般性质、用途及种类 | 第14-15页 |
| ·非热处理强化铝合金 | 第14-15页 |
| 1 工业纯铝 | 第14页 |
| 2 铝-锰系合金 | 第14-15页 |
| 3 铝-镁系合金 | 第15页 |
| ·热处理强化的铝合金 | 第15页 |
| 1 铝-镁-硅系合金 | 第15页 |
| 2 铝-铜及铝-铜-镁系合金 | 第15页 |
| 3 铝-锌-镁-铜系和铝-锌-镁系合金 | 第15页 |
| ·氧化铝 | 第15-16页 |
| ·铝的电位-pH值图上的氧化膜的形成区域 | 第16-17页 |
| ·成膜过程与对应电压区间 | 第17-19页 |
| ·法拉第区 | 第17-18页 |
| ·金属钝化区 | 第17-18页 |
| ·阳极氧化区 | 第18页 |
| ·火花放电区 | 第18-19页 |
| ·弧光放电区 | 第19页 |
| ·阳极氧化 | 第19-22页 |
| ·基本机理 | 第20-21页 |
| ·碱性电解液阳极氧化法 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化机理 | 第22-25页 |
| ·微弧氧化膜的制备方法 | 第25-27页 |
| ·酸性电解液氧化法 | 第25页 |
| ·碱性电解液氧化法 | 第25-27页 |
| ·微弧氧化的电源模式 | 第27-28页 |
| ·微弧氧化的工艺要求 | 第28-30页 |
| ·工作电压 | 第28页 |
| ·表面电绝缘膜 | 第28页 |
| ·电解液 | 第28-29页 |
| ·温度 | 第29-30页 |
| 第三章 实验研究及结果分析与讨论 | 第30-58页 |
| ·实验设备 | 第30-31页 |
| ·微弧氧化电源 | 第30页 |
| ·实验槽 | 第30页 |
| ·搅拌系统 | 第30-31页 |
| ·冷却系统 | 第31页 |
| ·其它设备或仪器 | 第31页 |
| ·实验基本操作步骤 | 第31-32页 |
| ·试样的分析测试方法 | 第32页 |
| ·膜层厚度的测试方法 | 第32页 |
| ·硬度的测试方法 | 第32页 |
| ·膜层表面形貌、相组成分析 | 第32页 |
| ·微弧氧化过程描述 | 第32-34页 |
| ·阳极氧化阶段 | 第32-33页 |
| ·火花放电阶段 | 第33页 |
| ·微弧氧化阶段 | 第33页 |
| ·熄弧阶段或弧光放电阶段 | 第33-34页 |
| ·微弧氧化工艺条件的研究 | 第34-45页 |
| ·铝合金材质选择 | 第34页 |
| ·溶液体系的选择 | 第34-36页 |
| ·电参数的研究 | 第36-43页 |
| ·初始电压值的研究 | 第36-39页 |
| ·初始电流密度的研究 | 第39-43页 |
| ·微弧氧化时间的研究 | 第43-45页 |
| ·膜层厚度随氧化时间的变化 | 第43-44页 |
| ·电流随时间的变化 | 第44-45页 |
| ·微弧氧化在复杂工件上的应用 | 第45-53页 |
| ·微弧氧化在齿圈状工件上的应用 | 第45-48页 |
| ·初始电压对齿牙与齿槽上膜层厚度差的影响 | 第45-47页 |
| ·氧化时间对工件表面膜层不均匀性的影响 | 第47-48页 |
| ·微弧氧化在圆筒状工件上的应用 | 第48-53页 |
| ·圆筒高度变化对内外表面膜层厚度差的影响 | 第48-49页 |
| ·初始电压对内外表面膜层厚度差的影响 | 第49-51页 |
| ·工件放置位置对内外表面膜层厚度差的影响 | 第51-52页 |
| ·辅助阴极对内外表面膜层厚度差的影响 | 第52-53页 |
| ·膜层的表面形貌 | 第53-55页 |
| ·膜层的表面形貌的观察与分析 | 第53页 |
| ·不同初始电压下的膜层表面形貌 | 第53-55页 |
| ·膜层的相成分分析 | 第55-58页 |
| 第四章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间发表论文 | 第65页 |
