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机械振动对流体对流效应的影响研究

中文摘要第1-5页
英文摘要第5-10页
第1章: 文献综述第10-30页
 前言第10-11页
 1.1 晶体的常用熔体生长技术第11-13页
  1.1.1 提拉法第11-12页
  1.1.2 下降法第12页
  1.1.3 区熔法第12-13页
 1.2 熔体法生长晶体中的对流效应第13-18页
  1.2.1 浮力驱动对流第14-16页
  1.2.2 热毛细对流和浓度毛细对流第16-17页
  1.2.3 旋转引起的对流第17-18页
 1.3 对流对晶体生长的影响第18-21页
  1.3.1 对流对溶质分凝的影响第19-20页
  1.3.2 宏观不均匀性第20页
  1.3.3 微观不均匀性第20-21页
 1.4 熔体中对流的控制第21-23页
  1.4.1 常规的考虑第21-22页
  1.4.2 引入外力第22-23页
   1.4.2.1 引入外加磁场第22-23页
   1.4.2.2 空间微重力环境第23页
   1.4.2.3 引入离心力和科里奥利力第23页
   1.4.2.4 引入机械振动第23页
 1.5 机械振动在熔体晶体生长中的对流效应第23-30页
  1.5.1 机械振动对流对自然对流和热毛细对流的抑制作用第24-26页
  1.5.2 机械振动作用下流体中的质和热的输运机制第26-28页
  1.5.3 研究机械振动对熔体流动状态的影响的意义第28-30页
第2章: 机械振动对流体流动场的影响的实验模拟第30-56页
 引言第30-31页
 2.1 实验装置及实验过程第31-33页
 2.2 频率为100赫兹时的流体表面的流动状况第33-50页
  2.2.1 振动振幅对流动场的影响第33-43页
   2.2.1.1 流动花样随振幅的变化过程第33-35页
   2.2.1.2 振幅对表面流动速率的影响第35-36页
   2.2.1.3 稳态对流流动花样在振幅连续变化过程中的转化模式第36-42页
   2.2.1.4 振荡态对流的存在第42-43页
  2.2.2 高径比对流动场的影响第43-46页
   2.2.2.1 流体高径比对流动花样形状的影响第44页
   2.2.2.2 高径比在流动花样随振幅的变化过程中的作用第44-46页
  2.2.3 粘度对流动场的影响第46-50页
   2.2.3.1 粘度对流动花样的影响第46-49页
   2.2.3.2 粘度对流动速率的影响第49-50页
 2.3 振动频率为50赫兹时流体的流动第50-56页
  2.3.1 振动振幅对流体表面流动场的影响第50-52页
  2.3.2 溶液高径比对流动花样的影响第52-54页
  2.3.3 粘度对流动的影响第54-56页
第3章: 机械振动作用下熔体流动场数值模拟第56-71页
 3.1 引言第56页
 3.2 Bi_(12)SiO_(20)熔体在机械振动作用下的流动场第56-60页
  3.2.1 机械振动振幅的变化对流体流动效应的影响第57-59页
  3.2.2 频率对流体流动场的影响第59-60页
   3.2.2.1 不同频率下的流动图线第59页
   3.2.2.2 频率对流动场随振幅变化过程的影响第59-60页
 3.3 CaCl_2熔体在机械振动作用下的流动场第60-66页
  3.3.1 振动振幅对流动场的影响第61-63页
  3.3.2 高径比对流体流动状态的影响第63-64页
  3.3.3 振动频率对流动场的影响第64页
  3.3.4 粘度对流动状态的影响第64-66页
 3.4 金属半导体锗在机械振动作用下的流动场第66-71页
  3.4.1 高频下流动场与振幅的关系第66-67页
  3.4.2 低频下流动场与振幅的关系第67-68页
  3.4.3 不同频率下的对流第68-71页
第4章: 浮力驱动对流数值模拟第71-78页
 4.1 金属半导体Ge熔体的流动第71-74页
  4.1.1 锗熔体在温度梯度作用下的流动第71-72页
  4.1.2 熔体高径比对浮力驱动的对流的影响第72-74页
 4.2 H_2O溶液的浮力驱动对流模拟第74-78页
  4.2.1 水溶液在温度梯度作用下的流动场第74-75页
  4.2.2 高径比对流动场的影响第75-78页
结言第78-80页
参考文献第80-85页
作者发表的文章第85页

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