| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-20页 |
| ·课题研究的背景 | 第11页 |
| ·高温超导薄膜应用与发展 | 第11-15页 |
| ·超导材料的发展 | 第11-13页 |
| ·超导薄膜的兴起与应用 | 第13-14页 |
| ·高温超导薄膜的研究进展与展望 | 第14-15页 |
| ·Bi系超导薄膜的结构与性能 | 第15-18页 |
| ·国内外研究现状与发展动态 | 第18页 |
| ·本文研究的内容、目的及意义 | 第18-20页 |
| 第2章 基本原理与研究方法 | 第20-31页 |
| ·薄膜生长的相关理论 | 第20-23页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第20-21页 |
| ·薄膜生长的动力学理论模型 | 第21-23页 |
| ·分子束外延系统 | 第23-27页 |
| ·分子束外延法 | 第23-24页 |
| ·RHEED(高能电子衍射仪)的工作原理 | 第24-26页 |
| ·红外温度监测仪的工作原理 | 第26-27页 |
| ·薄膜材料的研究方法 | 第27-29页 |
| ·XRD(X射线衍射仪)的工作原理 | 第27-28页 |
| ·扫描电镜(SEM)工作原理 | 第28-29页 |
| ·Seebeck效应 | 第29-31页 |
| 第3章 实验 | 第31-40页 |
| ·实验用品及仪器 | 第31-32页 |
| ·生长参数 | 第32-36页 |
| ·衬底材料的选择 | 第32-33页 |
| ·高浓度重氧的制备与重氧分压的选择 | 第33-35页 |
| ·衬底的温度选择 | 第35-36页 |
| ·沉积速率 | 第36页 |
| ·Bi-2212薄膜的制备 | 第36-39页 |
| ·Bi-2212薄膜的表征 | 第39-40页 |
| 第4章 结果与讨论 | 第40-56页 |
| ·影响生长条件BSCCO外延薄膜的影响 | 第40-48页 |
| ·不同衬底温度对BSCCO薄膜的影响 | 第40-47页 |
| ·不同生长条件下外延生长的Bi-2212薄膜的比较 | 第47-48页 |
| ·不同衬底材料对Bi-2212外延薄膜的影响 | 第48-50页 |
| ·倾斜LaAlO_3衬底生长Bi-2212薄膜 | 第50-51页 |
| ·讨论 | 第51-56页 |
| 第5章 结论与展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62页 |