摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-11页 |
第1章 引言 | 第11-34页 |
·有机电致发光器件概述 | 第11-16页 |
·概述 | 第11页 |
·发展历史 | 第11-12页 |
·器件结构与工作原理 | 第12-16页 |
·有机电致发光器件电子注入材料的研究现状 | 第16-32页 |
·提高电子注入的意义 | 第16-18页 |
·阴极界面电子注入机理 | 第18-23页 |
·阴极/电子注入材料的研究现状 | 第23-30页 |
·关于碳酸铯电子注入机理的争议 | 第30-31页 |
·研究背景小结 | 第31-32页 |
·论文工作思路及主要内容 | 第32-34页 |
第2章 实验方法 | 第34-43页 |
·试剂和仪器 | 第34-35页 |
·主要试剂 | 第34页 |
·仪器 | 第34-35页 |
·材料及薄膜性质的表征 | 第35-36页 |
·薄膜表面形貌测定 | 第35-36页 |
·薄膜成分与结合状态分析 | 第36页 |
·器件制备 | 第36-39页 |
·基片清洗 | 第37页 |
·蒸镀 | 第37-38页 |
·封装 | 第38-39页 |
·器件性能测试 | 第39-43页 |
·电流密度-电压-亮度测试 | 第39-40页 |
·发光效率测试 | 第40-41页 |
·发光光谱测试 | 第41页 |
·发光寿命测试 | 第41-43页 |
第3章 碳酸铯电子注入机理及器件研究 | 第43-82页 |
·研究背景 | 第43页 |
·碳酸铯电子注入机理研究 | 第43-59页 |
·碳酸铯真空热蒸发过程的热力学计算 | 第43-48页 |
·碳酸铯真空热分解实验 | 第48-51页 |
·真空蒸镀碳酸铯薄膜的XPS 分析 | 第51-56页 |
·基于碳酸铯的单电子传输器件的研究 | 第56-59页 |
·基于碳酸铯-银复合阴极的器件研究 | 第59-69页 |
·复合阴极电子注入层厚度的优化 | 第60-62页 |
·复合阴极电子注入层掺杂比例的优化 | 第62-65页 |
·复合阴极器件与碳酸铯/银、氟化锂/铝器件性能的比较 | 第65-68页 |
·复合阴极电子注入层合金的表征 | 第68-69页 |
·基于碳酸铯的透明器件研究 | 第69-80页 |
·银薄膜厚度的优化 | 第70-74页 |
·银厚度不同的复合阴极透明器件的比较 | 第74-77页 |
·复合阴极与碳酸铯/银阴极透明器件的比较 | 第77-79页 |
·透明器件不同出光方向的光谱分析 | 第79-80页 |
·本章小结 | 第80-82页 |
第4章 硼氢化钾的电子注入机理及器件研究 | 第82-95页 |
·研究背景 | 第82-83页 |
·硼氢化钾电子注入机理研究 | 第83-86页 |
·硼氢化钾真空热蒸发过程的热力学计算 | 第83-84页 |
·真空蒸镀硼氢化钾薄膜的XPS 分析 | 第84-86页 |
·基于硼氢化钾的器件研究 | 第86-94页 |
·基于硼氢化钾器件与氟化锂/铝器件性能的比较 | 第86-88页 |
·电子注入层厚度的优化 | 第88-92页 |
·阴极金属选择性的研究 | 第92-94页 |
·本章小结 | 第94-95页 |
结论 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-109页 |
致谢 | 第109-110页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第110页 |