| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| ·光镊技术发展背景 | 第8页 |
| ·国内外光镊技术研究历史及现状 | 第8-12页 |
| 1. 国外光镊技术的产生、发展状况及应用 | 第8-11页 |
| 2. 国内光镊技术的研究与发展状况 | 第11-12页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第12-13页 |
| 第二章 光镊基本原理概述 | 第13-22页 |
| ·光辐射压 | 第13-18页 |
| 1. 光辐射压概述 | 第13-14页 |
| 2. 光与物体相互作用产生的辐射压力 | 第14-18页 |
| ·光镊原理 | 第18-22页 |
| 1. 利用几何光学模型分析米氏粒子与光场的相互作用 | 第18-19页 |
| 2. 利用电磁模型分析瑞利粒子与光场的相互作用 | 第19-22页 |
| 第三章 粒子在不同光场中横向受力分析 | 第22-41页 |
| ·瑞利粒子在贝塞尔光束中的横向受力分析 | 第22-31页 |
| 1. 贝塞尔光束概述 | 第22-25页 |
| 2. 贝塞尔光束中瑞利粒子受力的数值计算与结果讨论 | 第25-31页 |
| ·瑞利粒子在基模高斯光束中的横向受力分析 | 第31-35页 |
| 1. 高斯光束概述 | 第31-33页 |
| 2. 基模高斯光束中瑞利粒子受力的数值计算与结果讨论 | 第33-35页 |
| ·瑞利粒子在拉盖尔—高斯光束中的横向受力分析 | 第35-39页 |
| 1. 拉盖尔-高斯光束的光场描述 | 第35-36页 |
| 2. 瑞利粒子在TM*01 光场中的受力分析 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 全文总结 | 第41-43页 |
| 参考文献 | 第43-48页 |
| 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49页 |
