| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·ZnO 的晶体结构和基本性质 | 第10-11页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第10页 |
| ·ZnO 的基本特性 | 第10-11页 |
| ·稀释磁性半导体材料的研究进展及尚待解决的问题 | 第11-14页 |
| ·稀释磁性半导体与自旋电子学 | 第11-12页 |
| ·稀释磁性半导体的研究进展 | 第12-13页 |
| ·ZnO 基DMS 的研究进展 | 第13-14页 |
| ·尚待解决的问题 | 第14页 |
| ·ZnO 薄膜制备的常见手段 | 第14-17页 |
| ·磁控溅射法 | 第15页 |
| ·喷雾热分解法 | 第15页 |
| ·分子束外延法 | 第15-16页 |
| ·化学气相沉积法 | 第16页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第16-17页 |
| ·本文的工作意义与研究目标 | 第17-19页 |
| ·课题的意义与目的 | 第17-18页 |
| ·论文的具体内容 | 第18-19页 |
| 第二章 材料设计与计算的发展及其意义 | 第19-36页 |
| ·材料设计与计算的概述 | 第19-20页 |
| ·材料设计中的计算机模拟 | 第20-21页 |
| ·软件介绍和理论基础 | 第21-36页 |
| ·CASTEP 软件 | 第21-22页 |
| ·计算理论基础 | 第22-36页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法制备ZnO 薄膜的机理和表征手段以及发光特性 | 第36-43页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO 薄膜的机理 | 第36-40页 |
| ·溶胶-凝胶技术发展历程 | 第36页 |
| ·溶胶-凝胶法在材料学方面的应用 | 第36-37页 |
| ·溶胶-凝胶法的特点 | 第37-38页 |
| ·薄膜制备过程的化学反应机理[45] | 第38-39页 |
| ·溶胶-凝胶技术存在的问题 | 第39-40页 |
| ·薄膜的表征手段 | 第40-41页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第40页 |
| ·金相显微镜 | 第40页 |
| ·光致发光谱仪 | 第40-41页 |
| ·振动样品磁强计 | 第41页 |
| ·ZnO 的发光特性简述 | 第41-43页 |
| 第四章 Fe，Ni 共掺杂ZnO 的电子结构和光学性质的第一性原理研究 | 第43-52页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·模型构建和计算方法 | 第44-45页 |
| ·能带结构分析 | 第45-48页 |
| ·纯净ZnO 的电子结构 | 第45页 |
| ·共掺杂 ZnO 的电子结构电子结构 | 第45-48页 |
| ·光学性质分析 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 Fe，Ni 共掺杂 ZnO 薄膜的制备与磁、光性能研究 | 第52-61页 |
| ·薄膜的制备 | 第52-54页 |
| ·实验原料 | 第52页 |
| ·薄膜制备的设备 | 第52-53页 |
| ·前驱液的制备 | 第53页 |
| ·试验配比方案 | 第53页 |
| ·工序流程 | 第53-54页 |
| ·实验结果与分析 | 第54-60页 |
| ·薄膜样品的表面形貌与微结构 | 第54-58页 |
| ·薄膜样品的光学性质 | 第58-59页 |
| ·薄膜样品的磁性能 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 在校期间的科研成果 | 第70页 |
