基于LASIS的高分辨高光谱成像仪光学系统设计及杂光分析
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·光谱成像技术的发展及应用 | 第9-12页 |
| ·光谱成像技术的发展 | 第9-10页 |
| ·光谱成像仪的应用 | 第10-12页 |
| ·光谱成像技术原理 | 第12-17页 |
| ·本论文的主要内容及工作 | 第17-18页 |
| 第二章 光学系统设计 | 第18-50页 |
| ·高光谱成像仪光学系统技术指标和方案选择 | 第18-21页 |
| ·光学系统技术指标确定 | 第18-19页 |
| ·前置镜光学系统方案 | 第19-21页 |
| ·成像镜光学系统方案 | 第21页 |
| ·折反射系统的理论基础 | 第21-26页 |
| ·折反射系统的类型 | 第21-23页 |
| ·折反系统的消像差理论 | 第23-26页 |
| ·R-C系统的设计 | 第26-36页 |
| ·R-C系统的设计方法 | 第26-28页 |
| ·R-C系统初始结构计算 | 第28-30页 |
| ·R-C光学系统优化 | 第30-36页 |
| ·准直镜和成像镜设计 | 第36-41页 |
| ·准直镜光学系统的初始结构 | 第36-37页 |
| ·双胶合镜二级光谱的性质 | 第37-39页 |
| ·准直镜光学系统优化 | 第39-40页 |
| ·成像镜光学系统设计 | 第40-41页 |
| ·横向剪切干涉仪设计 | 第41-48页 |
| ·Sagnac干涉仪的分光原理 | 第41-42页 |
| ·横向剪切仪技术指标 | 第42页 |
| ·Sagnac干涉仪外形尺寸计算 | 第42-48页 |
| ·高光谱成像仪全光学系统 | 第48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第三章 杂光分析 | 第50-77页 |
| ·杂光分析的意义 | 第50页 |
| ·杂光分析的方法 | 第50-54页 |
| ·蒙特卡罗法 | 第51页 |
| ·光学系统的杂光传输 | 第51-53页 |
| ·杂散光分析步骤 | 第53-54页 |
| ·高光谱成像仪的消杂光设计 | 第54-59页 |
| ·遮光罩的设计 | 第55-57页 |
| ·挡光环设计 | 第57-59页 |
| ·系统建模 | 第59-70页 |
| ·双向散射分布函数 BSDF | 第59-61页 |
| ·高光谱成像仪系统各表面 BSDF确定 | 第61-64页 |
| ·干涉仪光学模型建立 | 第64-65页 |
| ·确定散射面 | 第65-68页 |
| ·重点采样 | 第68-70页 |
| ·高光谱成像仪的杂散光分析 | 第70-76页 |
| ·点源透射比PST | 第70页 |
| ·PST的计算 | 第70-74页 |
| ·系统消杂光能力评价 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第四章 总结与展望 | 第77-80页 |
| 参考文献 | 第80-83页 |
| 发表或已录用论文 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
