| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 1 绪论 | 第12-39页 |
| ·等离子体微细加工技术概况和发展趋势 | 第12-13页 |
| ·ICP源的装置结构和放电特点 | 第13-14页 |
| ·对ICP源放电模式的认识过程和研究意义 | 第14-16页 |
| ·模式跳变和回滞现象的研究进展 | 第16-37页 |
| ·模式跳变现象的研究现状 | 第16-24页 |
| ·回滞现象的研究现状 | 第24-31页 |
| ·对回滞现象的理论解释 | 第31-37页 |
| ·模式跳变和回滞现象研究中存在的问题 | 第37-38页 |
| ·本文的研究内容和安排 | 第38-39页 |
| 2 感性耦合Ar等离子体模式跳变的流体力学模拟研究 | 第39-59页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·射频电磁场的空间分布 | 第40-43页 |
| ·流体力学模型 | 第43-45页 |
| ·流体力学方程的数值算法 | 第45-49页 |
| ·流体力学模型与射频电磁场的耦合过程 | 第49-50页 |
| ·数值结果及讨论 | 第50-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 3 感性耦合Ar等离子体模式跳变的流体/电子MC混合模拟 | 第59-82页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·流体/电子MC混合模型 | 第59-66页 |
| ·伪碰撞技术 | 第61-64页 |
| ·牛顿方程更新技术 | 第64-65页 |
| ·不等时间步长的选取 | 第65页 |
| ·其他的粒子模拟技术 | 第65-66页 |
| ·数值结果及讨论 | 第66-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 4 亚稳态行为对感性耦合Ar等离子体模式跳变过程的影响 | 第82-101页 |
| ·引言 | 第82页 |
| ·改进的流体/电子MC混合模型 | 第82-85页 |
| ·亚稳态方程及其加速机制 | 第83页 |
| ·亚稳态碰撞类型的选取及MC技术 | 第83-84页 |
| ·沉积功率密度的计算方法 | 第84-85页 |
| ·模拟结果与讨论 | 第85-99页 |
| ·亚稳态对模式跳变中等离子体密度和温度的影响 | 第85-88页 |
| ·亚稳态原子密度在模式跳变中的演化特征 | 第88-93页 |
| ·亚稳态原子密度对模式跳变中的EEDF的影响 | 第93-95页 |
| ·E和H放电模式下EEDF的空间分布 | 第95-99页 |
| ·本章小结 | 第99-101页 |
| 结论 | 第101-104页 |
| 1.本文主要结论 | 第101-102页 |
| 2.工作展望 | 第102-104页 |
| 参考文献 | 第104-112页 |
| 附录A 射频电磁场的解析解 | 第112-116页 |
| 创新点摘要 | 第116-117页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第117-119页 |
| 致谢 | 第119-120页 |
| 作者简介 | 第120-122页 |
