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氧空位诱导MO3(M=W,Mo)光热协同催化CO2转化及杀菌研究

摘要第8-9页
Abstract第9页
第一章 绪论第10-16页
    1.1 引言第10页
    1.2 光催化杀菌第10-11页
    1.3 光催化还原二氧化碳第11-12页
    1.4 光催化反应基本原理第12-13页
        1.4.1 光催化反应机理上的影响因素第12-13页
        1.4.2 光催化反应基本步骤第13页
    1.5 光催化反应研究进展第13-15页
        1.5.1 光催化材料简介第13-14页
            1.5.1.1 金属氧化物第14页
            1.5.1.2 金属硫化物第14页
            1.5.1.3 磷化物第14页
            1.5.1.4 其它材料第14页
        1.5.2 光催化研究现状第14-15页
    1.6 本论文的研究内容及意义第15-16页
第二章 光诱导MOO_(3-x)光热协同催化还原二氧化碳性能的研究第16-36页
    2.1 前言第16-17页
    2.2 二氧化碳还原原理第17-18页
    2.3 实验部分第18-21页
        2.3.1 试剂与仪器第18-19页
        2.3.2 三氧化钼材料合成第19-20页
        2.3.3 表征第20页
        2.3.4 光催化转化二氧化碳实验第20-21页
        2.3.5 理论计算第21页
        2.3.6 电化学测试第21页
    2.4 结果与讨论第21-31页
        2.4.1 样品的形貌分析第21-23页
        2.4.2 氧空位对材料的影响第23-26页
        2.4.3 MoO_(3-x)二氧化碳还原性能研究第26-28页
        2.4.4 MoO_(3-x)不同吸附性能研究第28-29页
        2.4.5 MoO_3和MoO_(3-x)二氧化碳还原性能理论计算第29-30页
        2.4.6 MoO_(3-x)二氧化碳还原原位红外分析第30-31页
    2.5 不同溶剂制备缺陷三氧化钼第31-35页
        2.5.1 不同溶剂制备MoO_(3-x)形貌分析第31-33页
        2.5.2 不同溶剂制备MoO_(3-x)氧空位分析第33-34页
        2.5.3 不同溶剂制备MoO_(3-x)性能分析第34页
        2.5.4 不同溶剂制备缺陷MoO_(3-x)比表面积分析第34-35页
    2.6 小结第35-36页
第三章 光诱导WO_(3-x)/C光热协同催化还原二氧化碳和杀菌性能的研究第36-50页
    3.1 前言第36-38页
    3.2 光催化杀菌原理第38-39页
    3.3 实验部分第39-41页
        3.3.1 试剂与仪器第39页
        3.3.2 三氧化钼材料合成第39页
        3.3.3 表征第39-40页
        3.3.4 光催化转化二氧化碳实验第40页
        3.3.5 光催化杀菌实验第40-41页
    3.4 结果与讨论第41-49页
        3.4.1 WO_(3-x)/C和 WO_3 形貌分析第41-43页
        3.4.2 WO_(3-x)/C和 WO_3 氧空位分析第43-44页
        3.4.3 WO_(3-x)/C和 WO_3 性能分析第44-46页
        3.4.4 WO_(3-x)/C和 WO_3 吸附性能和荧光性能分析第46-47页
        3.4.5 WO_(3-x)/C和 WO_3 杀菌性能分析第47-49页
    3.5 小结第49-50页
第四章 结论与讨论第50-51页
    4.1 结论第50页
    4.2 讨论第50页
    4.3 创新点与展望第50-51页
参考文献第51-62页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第62-64页
致谢第64页

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