摘要 | 第8-9页 |
Abstract | 第9页 |
第一章 绪论 | 第10-16页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 光催化杀菌 | 第10-11页 |
1.3 光催化还原二氧化碳 | 第11-12页 |
1.4 光催化反应基本原理 | 第12-13页 |
1.4.1 光催化反应机理上的影响因素 | 第12-13页 |
1.4.2 光催化反应基本步骤 | 第13页 |
1.5 光催化反应研究进展 | 第13-15页 |
1.5.1 光催化材料简介 | 第13-14页 |
1.5.1.1 金属氧化物 | 第14页 |
1.5.1.2 金属硫化物 | 第14页 |
1.5.1.3 磷化物 | 第14页 |
1.5.1.4 其它材料 | 第14页 |
1.5.2 光催化研究现状 | 第14-15页 |
1.6 本论文的研究内容及意义 | 第15-16页 |
第二章 光诱导MOO_(3-x)光热协同催化还原二氧化碳性能的研究 | 第16-36页 |
2.1 前言 | 第16-17页 |
2.2 二氧化碳还原原理 | 第17-18页 |
2.3 实验部分 | 第18-21页 |
2.3.1 试剂与仪器 | 第18-19页 |
2.3.2 三氧化钼材料合成 | 第19-20页 |
2.3.3 表征 | 第20页 |
2.3.4 光催化转化二氧化碳实验 | 第20-21页 |
2.3.5 理论计算 | 第21页 |
2.3.6 电化学测试 | 第21页 |
2.4 结果与讨论 | 第21-31页 |
2.4.1 样品的形貌分析 | 第21-23页 |
2.4.2 氧空位对材料的影响 | 第23-26页 |
2.4.3 MoO_(3-x)二氧化碳还原性能研究 | 第26-28页 |
2.4.4 MoO_(3-x)不同吸附性能研究 | 第28-29页 |
2.4.5 MoO_3和MoO_(3-x)二氧化碳还原性能理论计算 | 第29-30页 |
2.4.6 MoO_(3-x)二氧化碳还原原位红外分析 | 第30-31页 |
2.5 不同溶剂制备缺陷三氧化钼 | 第31-35页 |
2.5.1 不同溶剂制备MoO_(3-x)形貌分析 | 第31-33页 |
2.5.2 不同溶剂制备MoO_(3-x)氧空位分析 | 第33-34页 |
2.5.3 不同溶剂制备MoO_(3-x)性能分析 | 第34页 |
2.5.4 不同溶剂制备缺陷MoO_(3-x)比表面积分析 | 第34-35页 |
2.6 小结 | 第35-36页 |
第三章 光诱导WO_(3-x)/C光热协同催化还原二氧化碳和杀菌性能的研究 | 第36-50页 |
3.1 前言 | 第36-38页 |
3.2 光催化杀菌原理 | 第38-39页 |
3.3 实验部分 | 第39-41页 |
3.3.1 试剂与仪器 | 第39页 |
3.3.2 三氧化钼材料合成 | 第39页 |
3.3.3 表征 | 第39-40页 |
3.3.4 光催化转化二氧化碳实验 | 第40页 |
3.3.5 光催化杀菌实验 | 第40-41页 |
3.4 结果与讨论 | 第41-49页 |
3.4.1 WO_(3-x)/C和 WO_3 形貌分析 | 第41-43页 |
3.4.2 WO_(3-x)/C和 WO_3 氧空位分析 | 第43-44页 |
3.4.3 WO_(3-x)/C和 WO_3 性能分析 | 第44-46页 |
3.4.4 WO_(3-x)/C和 WO_3 吸附性能和荧光性能分析 | 第46-47页 |
3.4.5 WO_(3-x)/C和 WO_3 杀菌性能分析 | 第47-49页 |
3.5 小结 | 第49-50页 |
第四章 结论与讨论 | 第50-51页 |
4.1 结论 | 第50页 |
4.2 讨论 | 第50页 |
4.3 创新点与展望 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-62页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第62-64页 |
致谢 | 第64页 |