| 摘要 | 第6-7页 |
| 1 前言 | 第7-12页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第7页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第7-10页 |
| 1.2.1 高光谱遥感技术简介 | 第7-8页 |
| 1.2.2 利用非成像高光谱技术监测病害的国内外研究现状 | 第8页 |
| 1.2.3 利用高光谱成像技术监测病害的国内外研究现状 | 第8-9页 |
| 1.2.4 化学计量学方法在高光谱领域的研究进展 | 第9-10页 |
| 1.3 研究切入点 | 第10-11页 |
| 1.4 研究内容与方法 | 第11-12页 |
| 1.5 技术路线 | 第12页 |
| 2 材料与方法 | 第12-17页 |
| 2.1 样品采集 | 第12-13页 |
| 2.2 仪器设备 | 第13-14页 |
| 2.3 高光谱图像校正方法 | 第14页 |
| 2.4 大斑病叶片样本的成像高光谱数据处理流程 | 第14-15页 |
| 2.5 病害严重度分级 | 第15页 |
| 2.6 化学计量学方法 | 第15-16页 |
| 2.6.1 连续投影算法(SPA) | 第15页 |
| 2.6.2 多元线性回归方法(MLR) | 第15页 |
| 2.6.3 偏最小二乘回归(PLSR) | 第15-16页 |
| 2.6.4 支持向量机(SVM) | 第16页 |
| 2.7 光谱处理和数据分析软件 | 第16-17页 |
| 2.8 模型评价参数 | 第17页 |
| 3 结果与分析 | 第17-27页 |
| 3.1 玉米大斑病叶片病斑面积的统计分析 | 第17-18页 |
| 3.2 玉米大斑病不同病斑面积的高光谱特征 | 第18-20页 |
| 3.2.1 玉米大斑病不同病斑面积的原始高光谱特性 | 第18-19页 |
| 3.2.2 玉米大斑病不同病斑面积的预处理高光谱特性 | 第19-20页 |
| 3.3 玉米大斑病病斑面积与高光谱的相关性 | 第20-22页 |
| 3.3.1 玉米大斑病病斑面积与原始高光谱的相关性 | 第20-21页 |
| 3.3.2 玉米大斑病病斑面积与预处理高光谱的相关性 | 第21-22页 |
| 3.4 玉米大斑病的高光谱特征 | 第22-23页 |
| 3.5 玉米大斑病病斑面积的高光谱监测 | 第23-27页 |
| 3.5.1 基于特征波段的玉米大斑病监测模型 | 第23-24页 |
| 3.5.2 基于全谱的PLS玉米大斑病监测模型 | 第24-25页 |
| 3.5.3 基于全谱的SVM玉米大斑病监测模型 | 第25-27页 |
| 4 结论与讨论 | 第27-29页 |
| 4.1 讨论 | 第27-28页 |
| 4.2 结论 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-36页 |
| Abstract | 第36-37页 |
| 致谢 | 第38页 |
