ECR等离子体各向异性刻蚀单层石墨烯的研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 等离子体基本原理和放电方式 | 第11-13页 |
| 1.2 微波ECR等离子体的特定和应用 | 第13-15页 |
| 1.3 等离子体刻蚀的现状和现存的问题 | 第15-19页 |
| 1.3.1 等离子体刻蚀概述 | 第15-17页 |
| 1.3.2 等离子体刻蚀机制 | 第17-18页 |
| 1.3.3 等离子体刻蚀体系类型 | 第18-19页 |
| 1.4 石墨烯的基本特性、应用和研究现状 | 第19-26页 |
| 1.4.1 石墨烯的结构 | 第19-21页 |
| 1.4.2 石墨烯的性能 | 第21-23页 |
| 1.4.3 石墨烯的应用 | 第23-24页 |
| 1.4.4 石墨烯的刻蚀方法和存在的问题 | 第24-26页 |
| 1.5 课题的目的、意义及研究内容 | 第26-27页 |
| 1.5.1 课题研究的目的与意义 | 第26页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第26-27页 |
| 2 实验装置和石墨烯表征设备 | 第27-36页 |
| 2.1 微波ECR等离子体装置 | 第27-30页 |
| 2.2 石墨烯刻蚀的工艺流程 | 第30页 |
| 2.2.1 薄膜处理工艺 | 第30页 |
| 2.2.2 刻蚀的工艺流程 | 第30页 |
| 2.3 薄膜的分析与表征方法 | 第30-36页 |
| 2.3.1 成分 | 第30-33页 |
| 2.3.2 表面形貌 | 第33-34页 |
| 2.3.3 刻蚀速率测量 | 第34-35页 |
| 2.3.4 电学性质测量 | 第35-36页 |
| 3 石墨烯的刻蚀特性研究 | 第36-48页 |
| 3.1 H_2等离子体 | 第36-43页 |
| 3.1.1 放电参数与变量 | 第36-42页 |
| 3.1.2 刻蚀反应路径和机理分析 | 第42-43页 |
| 3.2 O_2等离子体 | 第43页 |
| 3.2.1 放电参数与变量 | 第43页 |
| 3.2.2 刻蚀反应路径和机理分析 | 第43页 |
| 3.3 N_2等离子体 | 第43-44页 |
| 3.3.1 放电参数与变量 | 第43-44页 |
| 3.3.2 刻蚀反应路径和机理分析 | 第44页 |
| 3.5 混合气体对石墨烯的各向异性刻蚀行为研究 | 第44-46页 |
| 3.5.1 放电参数与变量 | 第44-46页 |
| 3.5.2 刻蚀反应路径和机理分析 | 第46页 |
| 3.6 本章小结 | 第46-48页 |
| 4 结论与展望 | 第48-50页 |
| 4.1 本文的主要研究成果与结论 | 第48-49页 |
| 4.2 本文的创新之处 | 第49页 |
| 4.3 进一步的工作展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 作者攻读学位期间取得的研究成果 | 第53页 |
