基于抛物反射镜的无阴影照明型穿透深度可调TIRF装置研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-25页 |
1.1 课题背景及研究的目的 | 第9-14页 |
1.2 国内外研究现状及分析 | 第14-24页 |
1.2.1 无阴影照明TIRF的发展与应用 | 第14-19页 |
1.2.2 深度可调TIRF的发展与应用 | 第19-22页 |
1.2.3 穿透深度测量方法的研究现状 | 第22-24页 |
1.3 本文的研究意义及主要内容 | 第24-25页 |
第2章 全内反射荧光成像相关理论 | 第25-35页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 全反射现象在电磁理论下的解释 | 第25-29页 |
2.2.1 电磁场的边值关系 | 第25-26页 |
2.2.2 反射和折射定律 | 第26-27页 |
2.2.3 全反射现象 | 第27-29页 |
2.3 全反射的偏振态分析 | 第29-34页 |
2.3.1 菲涅尔公式 | 第29-31页 |
2.3.2 全反射的偏振分析 | 第31-34页 |
2.4 本章小结 | 第34-35页 |
第3章 无阴影照明型穿透深度可调TIRF系统分析 | 第35-39页 |
3.1 引言 | 第35页 |
3.2 多角度入射对穿透深度的影响 | 第35-36页 |
3.3 穿透深度测量方法研究 | 第36-38页 |
3.4 本章小结 | 第38-39页 |
第4章 实验装置的设计与搭建 | 第39-48页 |
4.1 引言 | 第39页 |
4.2 环形平行光发生光路 | 第39-43页 |
4.2.1 光路的设计与搭建 | 第39-41页 |
4.2.2 环形平行光半径调整精度研究 | 第41-43页 |
4.3 照明光路 | 第43-46页 |
4.3.1 光路的设计与搭建 | 第43-44页 |
4.3.2 关键器件的加工缺陷与解决方案 | 第44-46页 |
4.4 荧光成像光路 | 第46-47页 |
4.5 本章小结 | 第47-48页 |
第5章 实验条件准备及结果分析 | 第48-64页 |
5.1 引言 | 第48页 |
5.2 折射率匹配液的制备 | 第48-50页 |
5.3 样品的制备 | 第50-51页 |
5.4 实验验证及结果分析 | 第51-64页 |
5.4.1 TIRF效果及无阴影照明的实验验证 | 第51-54页 |
5.4.2 TIRF穿透深度可调的实验验证 | 第54-59页 |
5.4.3 穿透深度可调分辨率的验证与分析 | 第59-64页 |
结论 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-70页 |
致谢 | 第70页 |