摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-16页 |
1.1 研究碳纳米管场发射冷阴极的目的及意义 | 第10-11页 |
1.2 碳纳米管场发射冷阴极的国内外进展 | 第11-14页 |
1.2.1 化学气相沉积法 | 第11-13页 |
1.2.2 丝网印刷法 | 第13页 |
1.2.3 电泳沉积法 | 第13-14页 |
1.3 碳纳米管冷阴极目前存在的问题 | 第14页 |
1.4 论文内容结构安排 | 第14-16页 |
第二章 碳纳米管场致发射机理 | 第16-23页 |
2.1 金属场致发射机理及F-N公式推导 | 第16-20页 |
2.1.1 金属场致发射简介 | 第16-17页 |
2.1.2 金属场发射公式推导 | 第17-20页 |
2.2 碳纳米管场发射机理 | 第20-23页 |
2.2.1 局部电场增强原理 | 第21-22页 |
2.2.2 缺陷发射原理 | 第22-23页 |
第三章 碳纳米管生长与场发射测试系统 | 第23-28页 |
3.1 碳纳米管生长与场发射测试系统工作原理 | 第23-25页 |
3.2 场发射测试流程 | 第25-26页 |
3.3 场致发射性能测试指标 | 第26-28页 |
第四章 电泳沉积法制备碳纳米管冷阴极样品及其场发射性能的研究 | 第28-33页 |
4.1 电泳沉积法制备碳纳米管冷阴极样品 | 第28-30页 |
4.2 电泳沉积法制备碳纳米管冷阴极样品的场发射性能测试 | 第30-31页 |
4.2.1 电泳时间对碳纳米管冷阴极场发射性能的影响 | 第30-31页 |
4.2.2 镀覆Ti膜对碳纳米管冷阴极场发射性能的影响 | 第31页 |
4.3 电泳沉积法制备碳纳米管冷阴极样品的场发射性能分析 | 第31-32页 |
4.4 本章小结 | 第32-33页 |
第五章 丝网印刷法制备碳纳米管冷阴极样品及其场发射性能的研究 | 第33-42页 |
5.1 利用丝网印刷法对碳纳米管冷阴极样品的制备 | 第34-38页 |
5.1.1 碳纳米管的纯化工艺 | 第34-37页 |
5.1.2 丝网印刷法实验流程 | 第37-38页 |
5.2 丝网印刷法制备碳纳米管冷阴极的场发射特性 | 第38-40页 |
5.2.1 有机浆料的配比对碳纳米管冷阴极的场发射特性的影响 | 第38-39页 |
5.2.2 球磨时间对碳纳米管冷阴极的场发射特性的影响 | 第39-40页 |
5.3 丝网印刷法制备碳纳米管冷阴极样品的场致发射性能分析 | 第40-41页 |
5.4 本章小结 | 第41-42页 |
第六章 等离子体气相沉积法制备碳纳米管冷阴极及场发射性能的研究 | 第42-57页 |
6.1 PECVD法对碳纳米管冷阴极的制备及性能分析 | 第42-49页 |
6.1.1 利用PECVD法对碳纳米管冷阴极的制备 | 第42-43页 |
6.1.2 PECVD方法生长的碳纳米管的性能分析 | 第43-49页 |
6.2 PECVD法制备碳纳米管冷阴极样品的场发射测试 | 第49-54页 |
6.3 碳纳米管冷阴极场发射性能仿真 | 第54-55页 |
6.3.1 Magic软件简介 | 第54页 |
6.3.2 对场发射测试结果的模拟仿真 | 第54-55页 |
6.4 本章小结 | 第55-57页 |
第七章 全文总结与展望 | 第57-58页 |
7.1 全文总结 | 第57页 |
7.2 后续工作展望 | 第57-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-61页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第61-62页 |