| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-24页 |
| 1.1 邻苯二甲酸酯简介 | 第13-17页 |
| 1.1.1 邻苯二甲酸酯的来源和危害 | 第13-15页 |
| 1.1.2 邻苯二甲酸酯的迁移转化及去除方法 | 第15-17页 |
| 1.2 光催化技术及其发展 | 第17-20页 |
| 1.2.1 TiO_2光催化技术原理 | 第17-18页 |
| 1.2.2 TiO_2形貌对光催化性能的影响 | 第18页 |
| 1.2.3 TiO_2纳米管阵列的形成机理 | 第18-19页 |
| 1.2.4 TiO_2纳米管阵列可见光化改性方法 | 第19-20页 |
| 1.3 钛合金基底纳米管阵列的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.4 选题依据及研究内容 | 第21-24页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第21-22页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第22-23页 |
| 1.4.3 技术路线图 | 第23-24页 |
| 第二章 实验材料和表征方法 | 第24-33页 |
| 2.1 实验仪器与试剂 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第24页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第24-25页 |
| 2.2 材料结构及分析测试方法 | 第25-29页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第25-26页 |
| 2.2.2 扫描电镜(SEM)分析 | 第26页 |
| 2.2.3 透射电镜(TEM)分析 | 第26-27页 |
| 2.2.4 N2吸附/脱附等温线 | 第27页 |
| 2.2.5 能谱(EDX)分析 | 第27页 |
| 2.2.6 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第27-28页 |
| 2.2.7 紫外-可见漫反射光谱(UV-VisDRS)分析 | 第28-29页 |
| 2.2.8 光电流测试 | 第29页 |
| 2.3 催化剂可见光催化性能评价方法 | 第29-33页 |
| 2.3.1 目标污染物及分析方法 | 第29-30页 |
| 2.3.2 光催化反应装置 | 第30-31页 |
| 2.3.3 对邻苯二甲酸二丁酯(DBP)的可见光催化性能评价 | 第31页 |
| 2.3.4 DBP的解吸脱附实验 | 第31-33页 |
| 第三章 TC4合金基底纳米管阵列的制备及阳极氧化条件优化 | 第33-48页 |
| 3.1 前言 | 第33-34页 |
| 3.2 不同形貌TC4合金基底纳米管阵列的制备 | 第34-35页 |
| 3.2.1 钛片预处理 | 第34页 |
| 3.2.2 钛片电化学抛光 | 第34页 |
| 3.2.3 不同形貌合金二氧化钛纳米管阵列板的制备 | 第34-35页 |
| 3.3 阳极氧化条件优化实验 | 第35-36页 |
| 3.4 不同阳极氧化电压对TC4合金基底纳米管阵列形貌的影响 | 第36-39页 |
| 3.4.1 SEM分析 | 第36-38页 |
| 3.4.2 综合表征分析 | 第38-39页 |
| 3.5 不同阳极氧化时间对TC4合金基底纳米管阵列形貌的影响 | 第39-42页 |
| 3.5.1 SEM分析 | 第39-41页 |
| 3.5.2 综合表征分析 | 第41-42页 |
| 3.6 不同阳极氧化电解液条件对TC4合金基底纳米管阵列形貌的影响 | 第42-47页 |
| 3.6.1 不同NH_4F配比SEM分析 | 第42-44页 |
| 3.6.2 不同NH_4F配比综合表征分析 | 第44-45页 |
| 3.6.3 不同H_2O配比SEM分析 | 第45-46页 |
| 3.6.4 不同H_2O配比综合表征分析 | 第46-47页 |
| 3.7 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 双壁多孔TC4合金基底纳米管阵列的制备及其可见光催化性能 | 第48-70页 |
| 4.1 前言 | 第48页 |
| 4.2 双壁多孔TC4合金基底纳米管阵列的制备 | 第48-51页 |
| 4.2.1 钛片预处理 | 第48页 |
| 4.2.2 钛片电化学抛光 | 第48页 |
| 4.2.3 无管纳米合金二氧化钛氧化层的制备 | 第48-49页 |
| 4.2.4 单壁二氧化钛纳米管阵列板的制备 | 第49页 |
| 4.2.5 双壁多孔合金二氧化钛纳米管阵列板的制备 | 第49-51页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第51-61页 |
| 4.3.1 SEM分析 | 第51-53页 |
| 4.3.2 TEM分析 | 第53-54页 |
| 4.3.3 比表面积及孔径分析 | 第54-56页 |
| 4.3.4 XRD分析 | 第56-57页 |
| 4.3.5 Elementmapping分析 | 第57-58页 |
| 4.3.6 XPS分析 | 第58-59页 |
| 4.3.7 可见光响应性能评价 | 第59-60页 |
| 4.3.8 可见光催化性能评价 | 第60-61页 |
| 4.4 催化剂稳定性考察 | 第61-62页 |
| 4.5 活性组分检测 | 第62-63页 |
| 4.6 不同形貌光催化剂可见光催化降解DBP机理讨论 | 第63页 |
| 4.7 煅烧前后DW-ATNTAs表征结果与讨论 | 第63-67页 |
| 4.7.1 SEM分析 | 第64-65页 |
| 4.7.2 N_2吸脱附等温线及孔径分布 | 第65-66页 |
| 4.7.3 元素分析 | 第66-67页 |
| 4.8 双壁多孔纳米管阵列的形成机理 | 第67-68页 |
| 4.9 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 不同合金基底纳米管阵列的制备及其可见光催化性能 | 第70-84页 |
| 5.1 前言 | 第70页 |
| 5.2 不同钛合金基底纳米管阵列的制备 | 第70-71页 |
| 5.2.1 合金预处理 | 第70页 |
| 5.2.2 合金电化学抛光 | 第70页 |
| 5.2.3 Ti-3Al合金基底纳米管阵列的制备 | 第70-71页 |
| 5.2.4 Ti-6Al-6V合金基底纳米管阵列的制备 | 第71页 |
| 5.3 不同合金基底纳米管阵列表征结果与讨论 | 第71-77页 |
| 5.3.1 SEM分析 | 第71-72页 |
| 5.3.2 XRD分析 | 第72-73页 |
| 5.3.3 XPS分析 | 第73-75页 |
| 5.3.4 UV-Vis分析 | 第75-76页 |
| 5.3.5 可见光响应性能评价 | 第76-77页 |
| 5.4 不同合金基底纳米管阵列处理DBP的活性考察 | 第77-78页 |
| 5.5 煅烧前后不同合金基底纳米管阵列形貌对比 | 第78-80页 |
| 5.6 煅烧前后不同合金基底纳米管阵列元素分布对比 | 第80-82页 |
| 5.7 合金元素在双壁多孔纳米管阵列形成过程中的作用 | 第82-83页 |
| 5.8 本章小结 | 第83-84页 |
| 结论与展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-96页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第96-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 附件 | 第99页 |
