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微波等离子体CVD法合成单晶钻石的工艺条件对生长质量的影响

作者简介第6-8页
摘要第8-10页
abstract第10-11页
第一章 引言第15-37页
    1.1 钻石的结构、性质及其应用第15-17页
    1.2 人造钻石的制备方法第17-18页
    1.3 CVD钻石的生长原理第18-21页
    1.4 CVD法合成单晶钻石的研究现状第21-34页
    1.5 本论文主要研究内容及意义第34-37页
第二章 实验设备及测试方法第37-46页
    2.1 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备第37-38页
    2.2 结晶质量测试第38-40页
    2.3 表面形貌测试第40-42页
    2.4 结构缺陷测试第42-45页
    2.5 其它测试方法第45-46页
第三章 种晶对CVD钻石生长质量的影响第46-65页
    3.1 种晶的质量评定第46-55页
    3.2 种晶类型对CVD钻石生长质量的影响第55-64页
    3.3 小结第64-65页
第四章 实验参数对CVD钻石生长质量的影响第65-113页
    4.1 甲烷浓度第65-82页
    4.2 温度第82-94页
    4.3 压强第94-103页
    4.4 多晶钻石生长对结晶习性的指示第103-111页
    4.5 小结第111-113页
第五章 MPCVD法合成单晶钻石的工艺探索第113-163页
    5.1 基座形态对CVD钻石生长的影响第113-121页
    5.2 氮气浓度对CVD钻石生长的影响第121-137页
    5.3 种晶边部的结晶取向及形态对CVD钻石生长的影响第137-147页
    5.4 重复生长技术及大单晶钻石的生长实验第147-161页
    5.5 小结第161-163页
第六章 CVD钻石生长机制的探讨及对天然钻石生长的启示第163-179页
    6.1 CVD钻石生长模式及其部分影响因素探讨第163-169页
    6.2 氮元素促进钻石(100)晶面生长的作用机制第169-172页
    6.3 CVD钻石对天然钻石生长的启示第172-178页
    6.4 小结第178-179页
第七章 结论与展望第179-183页
    7.1 结论第179-181页
    7.2 研究工作中的不足与未来的展望第181-183页
致谢第183-185页
参考文献第185-199页

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