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智能化弹药改造中高阻硅基底阵列式微带天线

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-16页
    1.1 课题背景及研究意义第11-12页
    1.2 国内外的研究现状和发展趋势第12-14页
    1.3 论文的主要研究内容第14-16页
第二章 微带天线理论基础第16-30页
    2.1 微带天线的基本参数第16-17页
    2.2 微带天线的分析方法第17-24页
        2.2.1 传输线模型法第17-19页
        2.2.2 空腔模型法第19-24页
            2.2.2.1 内场第19-24页
    2.3 匹配网络阻抗匹配原理第24-28页
        2.3.1 四分之一波长阻抗匹配法第25-26页
        2.3.2 短截线匹配法第26-28页
            2.3.2.1 串联支节调配器第26-28页
    2.4 功率分配器设计第28-29页
    2.5 本章小结第29-30页
第三章 Ku波段高阻硅基底阵列式微带天线设计与仿真第30-47页
    3.1 介质基板的选择、结构设计与仿真第30-33页
        3.1.1 介质基板的选择第30-31页
        3.1.2 介质基板结构设计第31-32页
        3.1.3 基底材料不同的仿真结果及优劣分析第32-33页
    3.2 辐射单元和馈电方式的设计与仿真第33-39页
        3.2.1 矩形贴片辐射单元长宽的选取第33-35页
        3.2.2 矩形贴片圆极化设计第35-36页
        3.2.3 圆形贴片设计及其较矩形贴片性能的优劣分析第36-39页
        3.2.4 微带天线的馈电方式设计第39页
    3.3 馈电网络与阻抗匹配设计与仿真第39-42页
        3.3.1 匹配网络与阻抗匹配设计第39-41页
        3.3.2 不同方案的仿真结果及优劣分析第41-42页
    3.4 微带天线的阵列与封装设计第42-43页
        3.4.1 微带天线阵列数量与阵列形式第42页
        3.4.2 功分器设计第42-43页
        3.4.3 封装连接器SMA的选择第43页
    3.5 基于高阻硅基底的Ku波段阵列式微带天线的总体仿真第43-46页
    3.6 本章小结第46-47页
第四章 Ku波段阵列式微带天线加工工艺研究第47-62页
    4.1 微带天线加工工艺流程第47页
    4.2 微带天线电镀与溅射工艺第47-49页
        4.2.1 微带天线电镀与溅射薄膜制作流程第47-48页
        4.2.2 实施方案第48-49页
            4.2.2.1 溅射材料及工艺参数选择第48页
            4.2.2.2 电镀中镀层厚度与电流的关系第48-49页
    4.3 微带天线刻蚀工艺第49-57页
        4.3.1 等离子矩形空腔刻蚀及其平整度控制第49-57页
            4.3.1.1 低/高阻硅片刻蚀试验第49-50页
            4.3.1.2 刻蚀厚度控制及刻蚀平整度要求的提出第50-56页
            4.3.1.3 刻蚀中遇到的问题第56页
            4.3.1.4 研究结果分析与主要结论第56-57页
    4.4 微带天线阵列式切割工艺第57-59页
        4.4.1 实施方案第57-59页
            4.4.1.1 贴片放置方向确定第58页
            4.4.1.2 贴膜选择第58页
            4.4.1.3 主轴转速选择的试验第58页
            4.4.1.4 结构单元间距的确定第58-59页
    4.5 微带天线封装工艺第59-61页
        4.5.1 实施方案第59-61页
            4.5.1.1 封装材料选择第59-60页
            4.5.1.2 粘结方式的选择第60页
            4.5.1.3 结构形式第60页
            4.5.1.4 研究结果分析与主要结论第60-61页
    4.6 本章小结第61-62页
第五章 Ku波段阵列式微带天线性能测试第62-68页
    5.1 Ku波段阵列式微带线驻波比测试第62-65页
        5.1.1 测试设备及环境第62页
        5.1.2 Ku波段阵列式微带天线测试结果第62-65页
            5.1.2.1 编号1天线驻波比测试第62-63页
            5.1.2.2 编号2天线驻波比测试第63页
            5.1.2.3 编号3线驻波比测试第63-64页
            5.1.2.4 Ku波段阵列式微带天线测试问题及总结第64-65页
    5.2 Ku波段阵列式微带天线功率测试第65-67页
        5.2.1 测试设备及步骤第65-66页
            5.2.1.1 测试设备第65页
            5.2.1.2 实验步骤第65-66页
        5.2.2 Ku波段阵列式微带天线功率测试结果第66-67页
    5.3 本章小结第67-68页
第六章 总结与展望第68-69页
    6.1 总结第68页
    6.2 展望第68-69页
致谢第69-70页
参考文献第70-73页
攻硕期间取得的成果第73-74页

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