| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第11-12页 |
| ·等离子渗镀技术 | 第12-15页 |
| ·概述 | 第12-13页 |
| ·等离子浸没离子注入(PI~3: Plasma Immersion Ion Implantation)法 | 第13-14页 |
| ·离子注入(PSII: plasma source ion implantation)法 | 第14页 |
| ·等离子表面冶金学 | 第14-15页 |
| ·Plume 现象及相关研究 | 第15-20页 |
| ·等离子渗镀技术现状与发展趋势 | 第20-21页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第21页 |
| ·本章小结 | 第21-23页 |
| 第二章 三栅极离子渗镀技术 | 第23-31页 |
| ·装置、工作原理和基本特征 | 第23-26页 |
| ·装置 | 第23页 |
| ·工作原理 | 第23-24页 |
| ·基本特征 | 第24-26页 |
| ·结构特征及参数 | 第26-27页 |
| ·工作方式、电压工作模式及阴极材料 | 第27-29页 |
| ·工作方式 | 第27-28页 |
| ·电压工作模式 | 第28页 |
| ·阴极材料 | 第28页 |
| ·验证实验 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第三章 三栅极离子渗镀实验结果深入分析及相关论述 | 第31-39页 |
| ·三栅极离子渗镀实验结果深入分析 | 第31-36页 |
| ·渗镀层组织及成分分布特征及分析 | 第31-33页 |
| ·渗镀层形成过程 | 第33页 |
| ·渗镀速度和渗镀厚度 | 第33-34页 |
| ·多元一次性共渗镀 | 第34-36页 |
| ·渗镀的定义、方法及其分析 | 第36-37页 |
| ·渗镀的定义及分析 | 第36页 |
| ·渗镀方法及分析 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 三栅极P 极特性验证性实验 | 第39-45页 |
| ·空心阴极的特征 | 第39-40页 |
| ·P 极特性实验分析和思路 | 第40-41页 |
| ·P 极特性验证性实验 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 三栅极P 极特性验证性实验结果及分析 | 第45-67页 |
| ·工件极特性 | 第45-46页 |
| ·I 型P 极与源极施加相同电压时的P 极特性 | 第46-51页 |
| ·三栅极均施加电压时P 极的基本特性 | 第51-59页 |
| ·II 型P 极的阴极特性 | 第59-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第77页 |