| 摘要 | 第4-8页 |
| ABSTRACT | 第8-11页 |
| 符号说明 | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-29页 |
| 1.1 引言 | 第16页 |
| 1.2 高纯物中痕量杂质元素的测定方法 | 第16-21页 |
| 1.2.1 电化学分析法 | 第17页 |
| 1.2.2 原子吸收光谱法(AAS) | 第17-18页 |
| 1.2.3 电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS) | 第18-19页 |
| 1.2.4 电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-AES) | 第19-21页 |
| 1.3 ICP-AES测定高纯物中杂质元素的样品预处理和干扰校正研究 | 第21-26页 |
| 1.3.1 化学预分离法 | 第21-22页 |
| 1.3.2 化学计量法 | 第22-26页 |
| 1.4 研究课题简介 | 第26-29页 |
| 1.4.1 研究的目的和意义 | 第26-27页 |
| 1.4.2 研究内容和创新性 | 第27-29页 |
| 第二章 超纯氧化铁的制备及在ICP-AES测定高纯铁化合物中杂质的应用研究 | 第29-40页 |
| 2.1 引言 | 第29页 |
| 2.2 实验部分 | 第29-32页 |
| 2.2.1 仪器及工作条件 | 第29-30页 |
| 2.2.2 主要试剂 | 第30页 |
| 2.2.3 实验方法 | 第30-32页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第32-38页 |
| 2.3.1 制备超纯氧化铁的条件 | 第32-33页 |
| 2.3.2 分析线的选择 | 第33-34页 |
| 2.3.3 检出限与定量限 | 第34页 |
| 2.3.4 样品分析 | 第34-38页 |
| 2.4 小结 | 第38-40页 |
| 第三章 基于偏最小二乘法校正的ICP-AES测定高纯铁化合物中杂质的研究 | 第40-50页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 PLS算法 | 第40-42页 |
| 3.3 实验部分 | 第42-43页 |
| 3.3.1 仪器及工作条件 | 第42页 |
| 3.3.2 主要试剂 | 第42页 |
| 3.3.3 实验方法 | 第42-43页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第43-49页 |
| 3.4.1 分析波长范围的选择 | 第43页 |
| 3.4.2 参数的选择与解释 | 第43-45页 |
| 3.4.3 检出限和定量限 | 第45页 |
| 3.4.4 PLS模型预测结果 | 第45-47页 |
| 3.4.5 普通基体匹配法 | 第47-48页 |
| 3.4.6 PLS模型的校正度 | 第48页 |
| 3.4.7 实际样品分析 | 第48-49页 |
| 3.5 小结 | 第49-50页 |
| 第四章 基于支持向量机法校正的ICP-AES测定高纯铁化合物中杂质的研究 | 第50-60页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 SVM基本思想 | 第50-51页 |
| 4.3 实验方法 | 第51-52页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第52-58页 |
| 4.4.1 分析波长范围的选择 | 第52页 |
| 4.4.2 参数的选择与解释 | 第52-56页 |
| 4.4.3 检出限和定量限 | 第56页 |
| 4.4.4 SVM模型预测结果 | 第56-58页 |
| 4.4.5 实际样品分析 | 第58页 |
| 4.5 小结 | 第58-60页 |
| 第五章 ICP-AES测定高纯氧化镧中杂质的PLS和SVM校正 | 第60-72页 |
| 5.1 引言 | 第60页 |
| 5.2 实验部分 | 第60-62页 |
| 5.2.1 仪器及工作条件 | 第60-61页 |
| 5.2.2 主要试剂 | 第61页 |
| 5.2.3 实验方法 | 第61-62页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第62-70页 |
| 5.3.1 分析线的选择 | 第62-63页 |
| 5.3.2 参数的选择 | 第63-64页 |
| 5.3.3 检出限和定量限 | 第64-65页 |
| 5.3.4 PLS和SVM预测结果对比 | 第65-68页 |
| 5.3.5 PLS和SVM校正度对比 | 第68-69页 |
| 5.3.6 实际样品分析 | 第69-70页 |
| 5.4 小结 | 第70-72页 |
| 第六章 基于PLS和SVM校正的标准加入差减法和曲线拟合法 | 第72-86页 |
| 6.1 引言 | 第72页 |
| 6.2 标准加入差减法(SAS)基本思想 | 第72-74页 |
| 6.3 曲面拟合法基体思想 | 第74页 |
| 6.4 结果与讨论 | 第74-85页 |
| 6.4.1 标准加入法 | 第74-80页 |
| 6.4.2 曲线拟合法 | 第80-85页 |
| 6.5 小结 | 第85-86页 |
| 第七章 结论与展望 | 第86-88页 |
| 7.1 结论 | 第86-87页 |
| 7.2 展望 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-98页 |
| 附录 | 第98-102页 |
| 附录1 PLS运行程序 | 第98-100页 |
| 附录2 SVM运行程序 | 第100-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第103页 |
