| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 前言 | 第9-15页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 太阳电池的分类 | 第9-12页 |
| 1.3 提高太阳电池效率的方式 | 第12-14页 |
| 1.4 本论文选题的目的和意义 | 第14-15页 |
| 第2章 类金字塔织构的制备及表征 | 第15-33页 |
| 2.1 引言 | 第15-16页 |
| 2.2 实验过程 | 第16-17页 |
| 2.2.1 修饰液的配制 | 第16页 |
| 2.2.2 玻璃的清洗 | 第16页 |
| 2.2.3 修饰过程 | 第16-17页 |
| 2.2.4 修饰步骤 | 第17页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第17-28页 |
| 2.3.1 不同反应浓度和反应时间对玻璃表面形貌的影响 | 第18-19页 |
| 2.3.2 缓蚀剂对玻璃表面形貌的影响及光学特性测试 | 第19-24页 |
| 2.3.3 无机酸的改变和二次修饰对形貌的影响及其光学特性表征 | 第24-28页 |
| 2.4 成品薄膜非晶硅太阳电池玻璃盖板修饰 | 第28-29页 |
| 2.5 表征方法 | 第29-31页 |
| 2.6 本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 以修饰的玻璃为衬底的非晶硅薄膜电池的制备及性能表征 | 第33-49页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 硅基半导体太阳电池的电势分布 | 第34-35页 |
| 3.3 非晶硅基薄膜材料的制备方法 | 第35-40页 |
| 3.3.1 直流等离子体化学气相沉积法 | 第36页 |
| 3.3.2 射频等离子体化学气相沉积法 | 第36-37页 |
| 3.3.3 超高频等离子体化学气相沉积(VHF-PECVD)法 | 第37页 |
| 3.3.4 微波等离子体化学气相沉积法 | 第37-38页 |
| 3.3.5 热丝化学气相沉积法 | 第38-39页 |
| 3.3.6 其他沉积方法 | 第39-40页 |
| 3.4 硅基薄膜太阳电池的结构及工作原理 | 第40页 |
| 3.5 实验部分 | 第40-41页 |
| 3.6 实验过程 | 第41-43页 |
| 3.7 一次修饰的玻璃为基板制备的非晶硅薄膜太阳电池 | 第43-46页 |
| 3.8 不同微结构的玻璃为基板制备的非晶硅薄膜太阳电池 | 第46-48页 |
| 3.9 本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
| 攻读硕士学位期间科研成果 | 第59页 |
