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拥挤试剂协助制备分子印迹材料及性能评价

中文摘要第4-5页
Abstract第5-6页
符号说明第9-10页
第一章 前言第10-18页
    1.1 分子印迹技术的基本原理第10-12页
    1.2 分子印迹聚合物的合成材料第12-13页
    1.3 分子印迹聚合物的制备方法第13-14页
    1.4 分子印迹聚合物应用于控缓释系统第14-15页
    1.5 整体柱技术第15页
    1.6 选题意义及研究内容第15-18页
第二章 大分子拥挤条件下氨鲁米特印迹聚合物用于药物释放的评价第18-43页
    2.1 引言第18-19页
    2.2 实验部分第19-23页
        2.2.1 仪器和试剂第19-20页
        2.2.2 氨鲁米特印迹聚合物的制备第20-22页
        2.2.3 形态学考察第22页
        2.2.4 平衡吸附试验第22-23页
        2.2.5 释放试验第23页
        2.2.6 溶胀实验第23页
    2.3 结果与讨论第23-42页
        2.3.1 形态学考察第23-27页
        2.3.2 吸附试验第27-29页
        2.3.3 释放试验第29-30页
        2.3.4 制备参数的考察第30-36页
        2.3.5 释放曲线的拟合与药物释放机制的研究第36-42页
    2.4 小结第42-43页
第三章 离子液体为功能单体的印迹整体柱的制备和评价第43-62页
    3.1 引言第43-44页
    3.2 实验部分第44-45页
        3.2.1 试剂和仪器第44-45页
    3.3 酮洛芬整体柱的制备第45-47页
    3.4 酮洛芬印迹整体柱的试验方法第47-48页
        3.4.1 制备条件第47页
        3.4.2 色谱条件第47-48页
    3.5 结果与讨论第48-60页
        3.5.1 整体柱制备参数的研究第48-53页
        3.5.2 整体柱色谱参数研究第53-57页
        3.5.3 整体柱的形态学表征第57-60页
    3.6 小结第60-62页
结论第62-63页
参考文献第63-71页
发表论文和参加科研情况说明第71-72页
综述第72-99页
    综述参考文献第92-99页
致谢第99页

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