| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.2 互连的定义、发展及面临的挑战 | 第13-14页 |
| 1.3 扩散阻挡层 | 第14-21页 |
| 1.3.1 扩散阻挡层的性能要求 | 第14-15页 |
| 1.3.2 扩散阻挡层制备方法 | 第15-17页 |
| 1.3.3 化学镀扩散阻挡层的材料 | 第17-18页 |
| 1.3.4 铜互连阻挡层的研究方法 | 第18-21页 |
| 1.4 本文的研究意义、目的和内容 | 第21-22页 |
| 1.4.1 本文的研究意义及目的 | 第21页 |
| 1.4.2 本文研究内容 | 第21-22页 |
| 1.5 研究路线 | 第22-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-28页 |
| 2.1 实验设备 | 第23页 |
| 2.2 实验原材料 | 第23-25页 |
| 2.3 RMoB/Cu/RMoB/Si(R=Ni/Co)薄膜的制备 | 第25-27页 |
| 2.3.1 Si片预处理 | 第25页 |
| 2.3.2 薄膜沉积 | 第25-27页 |
| 2.3.3 热处理 | 第27页 |
| 2.4 样品处理及表征 | 第27-28页 |
| 第三章 Cu,NiMoB,CoMoB薄膜的制备及优化 | 第28-58页 |
| 3.1 Cu膜制备条件优化 | 第28-37页 |
| 3.1.1 CHOCOOH浓度的优化 | 第29-31页 |
| 3.1.2 CuSO_4·5H_2O浓度的优化 | 第31-32页 |
| 3.1.3 EDTA浓度的优化 | 第32-33页 |
| 3.1.4 pH值的优化 | 第33-34页 |
| 3.1.5 温度的优化 | 第34-35页 |
| 3.1.6 a-a'联吡啶浓度的优化 | 第35-37页 |
| 3.2 NiMoB薄膜制备条件优化 | 第37-47页 |
| 3.2.1 pH值的优化 | 第37-39页 |
| 3.2.2 温度的优化 | 第39-40页 |
| 3.2.3 NiSO_4·6_H_2O浓度的优化 | 第40-41页 |
| 3.2.4 DMAB浓度的优化 | 第41-42页 |
| 3.2.5 Na_3C_6H_5O_7·2H_2O浓度的优化 | 第42-43页 |
| 3.2.6 Na_2MoO_4·2H_2O浓度的优化 | 第43-44页 |
| 3.2.7 十二烷基硫酸钠浓度的优化 | 第44-45页 |
| 3.2.8 NH_4F浓度的优化 | 第45-46页 |
| 3.2.9 乙酸浓度的优化 | 第46-47页 |
| 3.3 CoMoB薄膜制备条件优化 | 第47-56页 |
| 3.3.1 pH值优化 | 第48-49页 |
| 3.3.2 温度的优化 | 第49-50页 |
| 3.3.3 CoSO_4·7H_2O浓度的优化 | 第50-51页 |
| 3.3.4 DMAB浓度的优化 | 第51-52页 |
| 3.3.5 Na_3C_6H_5O_7·2H_2O浓度的优化 | 第52-53页 |
| 3.3.6 Na_2MoO_4·2H_2O浓度的优化 | 第53-54页 |
| 3.3.7 十二烷基硫酸钠浓度的优化 | 第54-55页 |
| 3.3.8 乙酸浓度的优化 | 第55-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 NiMoB薄膜材料性能表征 | 第58-68页 |
| 4.1 NiMoB薄膜材料的物相分析 | 第58-60页 |
| 4.2 NiMoB薄膜材料的各元素成分分析 | 第60-62页 |
| 4.3 NiMoB薄膜材料的表面形貌分析 | 第62-64页 |
| 4.4 NiMoB薄膜材料的电阻率变化 | 第64-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 CoMoB薄膜材料性能表征 | 第68-78页 |
| 5.1 CoMoB薄膜材料的物相分析 | 第68-69页 |
| 5.2 CoMoB薄膜材料的各元素成分分析 | 第69-70页 |
| 5.3 CoMoB薄膜材料的表面形貌分析 | 第70-73页 |
| 5.4 CoMoB薄膜材料的电阻率变化 | 第73-75页 |
| 5.5 NiMoB和CoMoB薄膜的比较 | 第75-77页 |
| 5.6 本章小结 | 第77-78页 |
| 第六章 结论和展望 | 第78-81页 |
| 6.1 结论 | 第78-79页 |
| 6.2 展望 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 攻读硕士期间发表论文及获得的奖励 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
