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非金属表面沉积铁膜工艺研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-11页
第一章 绪论第11-19页
   ·引言第11页
   ·惯性约束聚变的简介第11-13页
     ·惯性约束聚变反应腔的应用第12-13页
   ·液相沉积技术第13-15页
     ·化学镀与电镀第13-14页
     ·化学镀工艺第14-15页
     ·液相沉积技术特点第15页
   ·液相法沉积铁膜的研究现状第15-17页
   ·论文的选题依据及研究方案第17-19页
第二章 化学镀铁理论基础及镀液各组分作用第19-30页
   ·化学镀的基本原理第19-22页
   ·化学镀铁热力学第22-23页
   ·化学镀铁动力学第23页
   ·化学镀铁机理第23-24页
   ·电镀铁原理第24-25页
   ·化学镀铁液组分作用第25-28页
     ·主盐第25页
     ·还原剂第25-26页
     ·络合剂第26-27页
     ·稳定剂第27页
     ·缓冲剂第27页
     ·其它添加剂第27-28页
   ·电镀液各组分作用第28-29页
     ·主盐第28页
     ·稳定剂第28-29页
     ·导电盐第29页
     ·阳极活化剂第29页
     ·添加剂第29页
   ·本章小结第29-30页
第三章 实验过程第30-40页
   ·研究内容第30页
   ·实验试剂及设备第30-31页
     ·实验试剂第30-31页
     ·实验设备第31页
   ·实验基底材料第31-32页
   ·实验工艺流程第32页
   ·实验的基本步骤第32-37页
     ·基底的前期预处理第32-35页
       ·除油第33-34页
       ·粗化第34页
       ·中和、还原第34页
       ·敏化第34页
       ·活化第34-35页
     ·化学镀铁液的配置第35-36页
     ·电镀液的配制第36页
     ·电镀基本操作步骤第36-37页
   ·镀铁膜的相关测试第37-40页
     ·镀层表面的直观评价第37页
     ·沉积速率测定第37页
     ·厚度测定第37-38页
     ·孔隙率的测定第38页
     ·镀层微观形貌及成分分析第38-40页
       ·扫描电子显微镜(SEM)第38页
       ·X 射线衍射(XRD)第38-39页
       ·X 射线能谱(EDS)第39-40页
第四章 化学镀铁的工艺研究及优化第40-53页
   ·化学镀铁实验方案第40页
   ·化学镀铁工艺水平探究第40-47页
     ·活化时间的影响第40-41页
     ·活化浓度的影响第41页
     ·主盐浓度的影响第41-42页
     ·还原剂的影响第42-43页
     ·络合剂的影响第43-47页
       ·单一络合剂第43-44页
       ·复合络合剂第44-47页
     ·缓冲剂对镀速的影响第47页
   ·施镀条件的选择第47-51页
     ·体系PH 值的选择第48页
     ·体系温度的选择第48-49页
     ·搅拌的影响第49-50页
     ·装载比的影响第50-51页
   ·电镀中工艺条件的影响第51-53页
第五章 镀层表面形貌分析第53-66页
   ·化学镀铁层的宏观形貌分析第53页
   ·镀层的生长第53-54页
   ·化学镀铁层微观形貌分析第54-61页
     ·镀层形貌第54-56页
     ·添加剂对镀层形貌的影响第56-59页
       ·不同糖精浓度条件镀层表面形貌分析第57-59页
     ·表面活性剂对镀层形貌的影响第59-61页
       ·不同表面活性剂浓度对镀层微观形貌的影响第60-61页
       ·表面活性剂对镀层的影响分析第61页
   ·电镀铁层微观形貌分析第61-62页
   ·化学镀铁层成分分析第62-63页
   ·化学镀铁层的X 射线衍射分析第63-64页
   ·电镀铁层的X 射线衍射分析第64-65页
   ·非晶态镀层生长机理第65-66页
第六章 结论第66-68页
致谢第68-69页
参考文献第69-73页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第73-74页

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