非金属表面沉积铁膜工艺研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-11页 |
第一章 绪论 | 第11-19页 |
·引言 | 第11页 |
·惯性约束聚变的简介 | 第11-13页 |
·惯性约束聚变反应腔的应用 | 第12-13页 |
·液相沉积技术 | 第13-15页 |
·化学镀与电镀 | 第13-14页 |
·化学镀工艺 | 第14-15页 |
·液相沉积技术特点 | 第15页 |
·液相法沉积铁膜的研究现状 | 第15-17页 |
·论文的选题依据及研究方案 | 第17-19页 |
第二章 化学镀铁理论基础及镀液各组分作用 | 第19-30页 |
·化学镀的基本原理 | 第19-22页 |
·化学镀铁热力学 | 第22-23页 |
·化学镀铁动力学 | 第23页 |
·化学镀铁机理 | 第23-24页 |
·电镀铁原理 | 第24-25页 |
·化学镀铁液组分作用 | 第25-28页 |
·主盐 | 第25页 |
·还原剂 | 第25-26页 |
·络合剂 | 第26-27页 |
·稳定剂 | 第27页 |
·缓冲剂 | 第27页 |
·其它添加剂 | 第27-28页 |
·电镀液各组分作用 | 第28-29页 |
·主盐 | 第28页 |
·稳定剂 | 第28-29页 |
·导电盐 | 第29页 |
·阳极活化剂 | 第29页 |
·添加剂 | 第29页 |
·本章小结 | 第29-30页 |
第三章 实验过程 | 第30-40页 |
·研究内容 | 第30页 |
·实验试剂及设备 | 第30-31页 |
·实验试剂 | 第30-31页 |
·实验设备 | 第31页 |
·实验基底材料 | 第31-32页 |
·实验工艺流程 | 第32页 |
·实验的基本步骤 | 第32-37页 |
·基底的前期预处理 | 第32-35页 |
·除油 | 第33-34页 |
·粗化 | 第34页 |
·中和、还原 | 第34页 |
·敏化 | 第34页 |
·活化 | 第34-35页 |
·化学镀铁液的配置 | 第35-36页 |
·电镀液的配制 | 第36页 |
·电镀基本操作步骤 | 第36-37页 |
·镀铁膜的相关测试 | 第37-40页 |
·镀层表面的直观评价 | 第37页 |
·沉积速率测定 | 第37页 |
·厚度测定 | 第37-38页 |
·孔隙率的测定 | 第38页 |
·镀层微观形貌及成分分析 | 第38-40页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第38页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第38-39页 |
·X 射线能谱(EDS) | 第39-40页 |
第四章 化学镀铁的工艺研究及优化 | 第40-53页 |
·化学镀铁实验方案 | 第40页 |
·化学镀铁工艺水平探究 | 第40-47页 |
·活化时间的影响 | 第40-41页 |
·活化浓度的影响 | 第41页 |
·主盐浓度的影响 | 第41-42页 |
·还原剂的影响 | 第42-43页 |
·络合剂的影响 | 第43-47页 |
·单一络合剂 | 第43-44页 |
·复合络合剂 | 第44-47页 |
·缓冲剂对镀速的影响 | 第47页 |
·施镀条件的选择 | 第47-51页 |
·体系PH 值的选择 | 第48页 |
·体系温度的选择 | 第48-49页 |
·搅拌的影响 | 第49-50页 |
·装载比的影响 | 第50-51页 |
·电镀中工艺条件的影响 | 第51-53页 |
第五章 镀层表面形貌分析 | 第53-66页 |
·化学镀铁层的宏观形貌分析 | 第53页 |
·镀层的生长 | 第53-54页 |
·化学镀铁层微观形貌分析 | 第54-61页 |
·镀层形貌 | 第54-56页 |
·添加剂对镀层形貌的影响 | 第56-59页 |
·不同糖精浓度条件镀层表面形貌分析 | 第57-59页 |
·表面活性剂对镀层形貌的影响 | 第59-61页 |
·不同表面活性剂浓度对镀层微观形貌的影响 | 第60-61页 |
·表面活性剂对镀层的影响分析 | 第61页 |
·电镀铁层微观形貌分析 | 第61-62页 |
·化学镀铁层成分分析 | 第62-63页 |
·化学镀铁层的X 射线衍射分析 | 第63-64页 |
·电镀铁层的X 射线衍射分析 | 第64-65页 |
·非晶态镀层生长机理 | 第65-66页 |
第六章 结论 | 第66-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-73页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第73-74页 |