基于MOS EXCEL对电子束蒸铝工艺的分析与改进
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-11页 |
| ·电子束蒸发的发展 | 第8页 |
| ·电子束蒸铝的分类 | 第8-10页 |
| ·电子束蒸发源蒸镀法 | 第8页 |
| ·高频感应蒸发源蒸镀法 | 第8页 |
| ·电阻蒸发源蒸镀法 | 第8-9页 |
| ·激光束蒸发源蒸镀法 | 第9页 |
| ·磁控溅射在表面改性技术中的应用 | 第9页 |
| ·等离子增强磁控溅射沉积技术（PMD） | 第9-10页 |
| ·反应磁控溅射技术 | 第10页 |
| ·离子镀 | 第10页 |
| ·本文所做的工作 | 第10-11页 |
| 第二章 电子束蒸铝的影响因素 | 第11-15页 |
| ·设备总体概括 | 第11-12页 |
| ·铝源 | 第12页 |
| ·坩锅 | 第12页 |
| ·蒸发速率 | 第12-13页 |
| ·烘烤 | 第13页 |
| ·高压电子束的供给系统 | 第13页 |
| ·真空 | 第13-15页 |
| ·真空的概念 | 第13页 |
| ·真空的分类 | 第13-14页 |
| ·真空在电子束蒸发中的重要性 | 第14-15页 |
| 第三章 研究对象的研究及规格统一 | 第15-33页 |
| ·铝源的研究与规格比较 | 第15-16页 |
| ·坩埚的研究与规格确定 | 第16-19页 |
| ·蒸发速率的研究 | 第19-21页 |
| ·烘烤温度方面 | 第21-22页 |
| ·高压供给系统的研究 | 第22-25页 |
| ·环形枪 | 第22-24页 |
| ·偏转式电子枪 | 第24-25页 |
| ·真空 | 第25-33页 |
| ·机械泵的研究 | 第26-28页 |
| ·罗茨泵的研究 | 第28-30页 |
| ·低温泵的研究 | 第30-31页 |
| ·各台设备真空值的校准与统一 | 第31-33页 |
| 第四章 单台设备进行的工艺实验 | 第33-63页 |
| ·设备的确定 | 第33页 |
| ·工艺参数与实验方法的确定 | 第33-35页 |
| ·实验及数据 | 第35-63页 |
| ·第一实验：铝源选用 | 第35-38页 |
| ·第二实验：坩埚实验 | 第38-42页 |
| ·烘烤实验 | 第42-50页 |
| ·电压电流实验 | 第50-54页 |
| ·真空实验 | 第54-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
