| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-31页 |
| ·金属掺杂硅基团簇的研究进展 | 第10-22页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·实验进展 | 第11-12页 |
| ·理论进展 | 第12-21页 |
| ·小结 | 第21-22页 |
| ·第ⅣB 族团簇的研究进展 | 第22-24页 |
| ·抗氧化剂的研究进展 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-31页 |
| 第2章 理论计算方法 | 第31-49页 |
| ·密度泛函理论 | 第31-46页 |
| ·密度泛函理论发展介绍 | 第31-32页 |
| ·Thomas-Fermi模型 | 第32-34页 |
| ·Hohenberg-Kohn定理 | 第34-36页 |
| ·Kohn-Sham方法和Kohn-Sham方程 | 第36-38页 |
| ·精确的密度泛函理论 | 第38-40页 |
| ·局域自旋密度近似 | 第40-41页 |
| ·广义梯度近似 | 第41-42页 |
| ·相对论效应 | 第42-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 第3章 Pd_2掺杂 Si_n团簇的几何、电子性质和增长模式 | 第49-70页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·计算细节 | 第50-51页 |
| ·结果和讨论 | 第51-66页 |
| ·几何结构和稳定性 | 第51-60页 |
| ·相对稳定性 | 第60-61页 |
| ·布局分析 | 第61-64页 |
| ·HOMO和LUMO特性 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 第4章 铪团簇的几何、电子结构和磁性 | 第70-85页 |
| ·引言 | 第70-71页 |
| ·计算细节 | 第71页 |
| ·结果和讨论 | 第71-81页 |
| ·几何结构和稳定性 | 第71-78页 |
| ·相对稳定性 | 第78-80页 |
| ·HOMO-LUMO能隙 | 第80页 |
| ·磁性 | 第80-81页 |
| ·结论 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-85页 |
| 第5章 抗坏血酸及其衍生物：抗氧化剂活性、稳定性和取代效应的分析 | 第85-100页 |
| ·引言 | 第85-86页 |
| ·计算方法 | 第86-87页 |
| ·结果与讨论 | 第87-96页 |
| ·抽取氢原子形成自由基 | 第89-91页 |
| ·电子转移形成自由基 | 第91-92页 |
| ·抗氧化剂的分子轨道性质 | 第92-93页 |
| ·抽氢反应和电子转移机制 | 第93-96页 |
| ·结论 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第101-102页 |