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脉冲偏压协同射频等离子体对PET膜的表面改性

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-29页
    1.1 等离子体概述第11-18页
        1.1.1 等离子体的基本概念第11页
        1.1.2 低温等离子体的基本概念及分类第11-16页
        1.1.3 低温等离子体材料表面改性原理第16-18页
    1.2 柔性电子技术概述第18-21页
    1.3 柔性基材的等离子体表面改性研究现状第21-23页
    1.4 本文的创作思路及内容体系第23-25页
        1.4.1 研究目标第23-24页
        1.4.2 研究内容第24页
        1.4.3 研究思路和创新第24-25页
    参考文献第25-29页
第二章 实验设备、实验流程及测试方法第29-36页
    2.1 脉冲偏压协同射频等离子体材料表面处理系统第29-30页
    2.2 实验流程第30-31页
    2.3 检测仪器及测试方法第31-35页
        2.3.1 接触角测试第31-32页
        2.3.2 场发射扫描电子显微镜第32页
        2.3.3 原子力显微镜第32-33页
        2.3.4 X射线光电子能谱(XPS)第33页
        2.3.5 朗缪尔探针诊断第33页
        2.3.6 发射光谱第33-34页
        2.3.7 剥离强度测试第34-35页
    参考文献第35-36页
第三章 等离子体诊断第36-48页
    3.1 等离子体诊断简介第36-40页
        3.1.1 Langmuir探针第36-39页
        3.1.2 光谱诊断第39-40页
    3.2 朗缪尔探针诊断第40-43页
    3.3 发射光谱诊断第43-46页
        3.3.1 连续放电模式第43-44页
        3.3.2 DC脉冲偏压对发射光谱的影响第44-46页
    3.4 本章小结第46-47页
    参考文献第47-48页
第四章 偏压与RF放电作用对PET膜表面性能的的影响第48-58页
    4.1 DC脉冲偏压协同作用效果第48-52页
        4.1.1 PET膜表面接触角分析第48-49页
        4.1.2 FESEM测试结果与分析第49-50页
        4.1.3 XPS测试结果与分析第50-52页
    4.2 脉冲调制频率对处理效果的影响第52-55页
        4.2.1 PET膜表面接触角分析第52-53页
        4.2.2 PET膜表面形貌分析第53-54页
        4.2.3 发射光谱强度随偏压的变化第54页
        4.2.4 时效性分析第54-55页
    4.3 本章小结第55-56页
    参考文献第56-58页
第五章 活性种浓度对PET膜表面改性的影响第58-68页
    5.1 实验设置第58-60页
    5.2 PET膜表面改性结果与分析第60-66页
        5.2.1 PET膜表面接触角分析第60-61页
        5.2.2 PET膜表面形貌分析第61-62页
        5.2.3 XPS分析第62-65页
        5.2.4 发射光谱随着偏压延迟的变化第65页
        5.2.5 时效性分析第65-66页
    5.3 本章小结第66-67页
    参考文献第67-68页
第六章 结论第68-70页
硕士期间发表文章第70-71页
致谢第71页

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