摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 研究背景及意义 | 第11-12页 |
1.2 发射率定义 | 第12-14页 |
1.3 极化光谱发射率测量方法 | 第14-15页 |
1.4 极化光谱发射率研究现状 | 第15-19页 |
1.5 研究内容 | 第19-21页 |
第二章 极化光谱发射率测量装置 | 第21-35页 |
2.1 测量装置整体设计 | 第21-22页 |
2.2 测量原理 | 第22-24页 |
2.3 样品加热和控温系统 | 第24-25页 |
2.4 黑体 | 第25-26页 |
2.5 光学系统 | 第26-29页 |
2.5.1 滤波片 | 第26-27页 |
2.5.2 偏振分束立方 | 第27-28页 |
2.5.3 辐射探头和光纤 | 第28-29页 |
2.5.4 光开关 | 第29页 |
2.6 机械系统 | 第29-31页 |
2.7 电测系统 | 第31-32页 |
2.7.1 探测器 | 第31-32页 |
2.7.2 放大系统 | 第32页 |
2.8 数据采集系统 | 第32-34页 |
2.9 本章小结 | 第34-35页 |
第三章 极化光谱发射率实验装置性能测试 | 第35-41页 |
3.1 样品温度均匀性 | 第35-36页 |
3.2 黑体炉温度均匀性 | 第36页 |
3.3 响应系数校准 | 第36-38页 |
3.4 装置可靠性实验验证 | 第38-40页 |
3.4.1 理论模拟 | 第38-39页 |
3.4.2 样品处理 | 第39页 |
3.4.3 验证过程 | 第39-40页 |
3.4.4 测量结果与分析 | 第40页 |
3.5 本章小结 | 第40-41页 |
第四章 基于极化发射率的粗糙表面方向发射率解析模型 | 第41-49页 |
4.1 概述 | 第41-42页 |
4.2 理论方法 | 第42-43页 |
4.3 发射率和粗糙度关系假设的验证 | 第43-44页 |
4.4 理论方法验证和纯铝方向发射率测量 | 第44-47页 |
4.5 该方法在辐射测温技术中的应用 | 第47-48页 |
4.6 本章小结 | 第48-49页 |
第五章 研究不同温度热氧化对钛合金光谱发射率的影响 | 第49-63页 |
5.1 概述 | 第49-50页 |
5.2 测量方法 | 第50页 |
5.3 样品处理和测量过程 | 第50-51页 |
5.4 测量结果和讨论 | 第51-60页 |
5.4.1 氧化前Ti-6Al-4V光谱发射率 | 第51-53页 |
5.4.2 氧化过程中的光谱发射率 | 第53-54页 |
5.4.3 表面成分变化 | 第54-56页 |
5.4.4 表面形貌的改变 | 第56-57页 |
5.4.5 氧化膜干涉作用 | 第57-60页 |
5.5 测量不确定度 | 第60-62页 |
5.6 本章小结 | 第62-63页 |
第六章 总结 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
致谢 | 第71-73页 |
攻读学位期间的科研成果 | 第73-74页 |