| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第11-12页 |
| 1.2 TiO_2纳米管阵列的制备 | 第12-14页 |
| 1.2.1 模板合成法 | 第12页 |
| 1.2.2 水热合成法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 阳极氧化法 | 第13-14页 |
| 1.3 TiO_2光电催化反应机理 | 第14-17页 |
| 1.3.1 TiO_2光电催化原理 | 第15页 |
| 1.3.2 影响TiO_2光催化性能的因素 | 第15-17页 |
| 1.4 纳米压印 | 第17-19页 |
| 1.4.1 热压印 | 第17-18页 |
| 1.4.2 微接触印刷 | 第18页 |
| 1.4.3 紫外压印 | 第18-19页 |
| 1.4.4 纳米压印技术展望 | 第19页 |
| 1.5 本文研究目的及内容 | 第19-21页 |
| 1.5.1 本文研究目的 | 第19-20页 |
| 1.5.2 本文研究内容 | 第20-21页 |
| 2 TiO_2纳米管形成机理的研究 | 第21-32页 |
| 2.1 引言 | 第21页 |
| 2.2 实验内容 | 第21-23页 |
| 2.2.1 实验药品 | 第21页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第21-22页 |
| 2.2.3 TiO_2纳米管的制备 | 第22-23页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第23-31页 |
| 2.3.1 单层TiO_2纳米管的形成机理 | 第23-24页 |
| 2.3.2 三层TiO_2纳米管的形成机理 | 第24-31页 |
| 2.4 本章结论 | 第31-32页 |
| 3 大管径TiO_2纳米管的制备及其光催化性能研究 | 第32-43页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-34页 |
| 3.2.1 实验药品 | 第32-33页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第33页 |
| 3.2.3 TiO_2纳米管的制备 | 第33页 |
| 3.2.4 TiO_2纳米管的退火处理 | 第33页 |
| 3.2.5 光催化性能测试 | 第33-34页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第34-41页 |
| 3.3.1 水含量对TiO_2纳米管阵列的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.2 氧化电压对TiO_2纳米管阵列的影响 | 第35-38页 |
| 3.3.3 氟含量对TiO_2纳米管阵列的影响 | 第38-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 4 大孔径TiO_2纳米管的制备及其光催化性能研究 | 第43-50页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 实验部分 | 第43页 |
| 4.2.1 实验仪器 | 第43页 |
| 4.2.2 TiO_2纳米管的制备及光电流测量 | 第43页 |
| 4.2.3 TiO_2纳米管的退火处理及光催化性能测试 | 第43页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第43-49页 |
| 4.3.1 溶液温度对纳米管孔径的影响 | 第43-44页 |
| 4.3.2 浸泡时间对TiO_2纳米管孔径的影响 | 第44-46页 |
| 4.3.3 浸泡处理对TiO_2纳米管光催化性能的影响 | 第46-49页 |
| 4.4 本章结论 | 第49-50页 |
| 5 紫外纳米压印辅助阳极氧化法制备TiO_2纳米管 | 第50-61页 |
| 5.1 引言 | 第50页 |
| 5.2 实验内容 | 第50-51页 |
| 5.2.1 实验药品 | 第50页 |
| 5.2.2 实验仪器 | 第50-51页 |
| 5.3 紫外纳米压印 | 第51-53页 |
| 5.3.1 紫外纳米压印工艺过程 | 第51-52页 |
| 5.3.2 PDMS模板的制备 | 第52-53页 |
| 5.3.3 Ti片和Si片上的纳米压印过程 | 第53页 |
| 5.4 实验结果与讨论 | 第53-59页 |
| 5.4.1 柱状Si模板压印辅助制备TiO_2纳米管 | 第53-57页 |
| 5.4.2 凹坑Si模板压印辅助制备TiO_2纳米管 | 第57-59页 |
| 5.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 6 结论与展望 | 第61-63页 |
| 6.1 主要结论 | 第61-62页 |
| 6.2 创新点 | 第62页 |
| 6.3 工作展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-73页 |
| 附录 | 第73页 |
