石墨纳米片的改性及电热特性的研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-27页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 石墨烯的研究进展 | 第10-14页 |
1.2.1 石墨烯概述 | 第10-11页 |
1.2.2 石墨烯的应用 | 第11-12页 |
1.2.3 石墨烯导电薄膜 | 第12-14页 |
1.3 电热涂料研究进展 | 第14-19页 |
1.3.1 本征型导电涂料 | 第14-15页 |
1.3.2 添加型导电涂料 | 第15页 |
1.3.3 导电填料的种类 | 第15-16页 |
1.3.4 导电机理 | 第16-17页 |
1.3.5 影响导电能力的因素 | 第17-19页 |
1.4 石墨烯改性的研究 | 第19-25页 |
1.4.1 共价键改性 | 第19-22页 |
1.4.2 非共价键改性 | 第22-23页 |
1.4.3 离子介质稳定 | 第23-24页 |
1.4.4 改性石墨烯的应用 | 第24-25页 |
1.5 可靠性研究 | 第25页 |
1.6 本文的主要研究内容 | 第25-27页 |
第2章 实验材料与方法 | 第27-34页 |
2.1 药品与仪器 | 第27-28页 |
2.1.1 实验药品 | 第27页 |
2.1.2 主要实验仪器 | 第27-28页 |
2.2 实验过程 | 第28-31页 |
2.2.1 石墨纳米片的制备 | 第28-29页 |
2.2.2 GNS电热膜的制备 | 第29-30页 |
2.2.3 GNS/TiO_2水热改性过程 | 第30-31页 |
2.3 测试与表征 | 第31-34页 |
2.3.1 扫描电镜与能谱分析 | 第31页 |
2.3.2 透射电镜分析 | 第31页 |
2.3.3 拉曼光谱分析 | 第31页 |
2.3.4 X射线衍射分析 | 第31-32页 |
2.3.5 热重分析 | 第32页 |
2.3.6 电阻与电阻率测试 | 第32页 |
2.3.7 zeta电位测试 | 第32页 |
2.3.8 比表面积测试 | 第32页 |
2.3.9 薄膜硬度测试 | 第32-33页 |
2.3.10 红外光谱测试 | 第33-34页 |
第3章 电热膜的制备与测试 | 第34-49页 |
3.1 引言 | 第34页 |
3.2 GNS电热膜制作工艺的研究 | 第34-38页 |
3.2.1 成膜工艺的选择 | 第34-36页 |
3.2.2 基板对薄膜的影响 | 第36-37页 |
3.2.3 均质时间对薄膜的影响 | 第37-38页 |
3.3 GNS电热膜电阻率的影响因素 | 第38-43页 |
3.3.1 GNS含量的影响 | 第38-40页 |
3.3.2 涂膜尺寸对电阻的影响 | 第40页 |
3.3.3 GNS形貌对电阻的影响 | 第40-42页 |
3.3.4 炭黑及纳米银对薄膜的影响 | 第42-43页 |
3.4 GNS电热膜的性能测试 | 第43-48页 |
3.4.1 发热效率 | 第43-45页 |
3.4.2 表面硬度测试 | 第45-46页 |
3.4.3 使用寿命测试 | 第46-47页 |
3.4.4 阻燃性能测试 | 第47-48页 |
3.5 本章小结 | 第48-49页 |
第4章 GNS/TiO_2改性工艺与性能表征 | 第49-68页 |
4.1 引言 | 第49页 |
4.2 GNS/TiO_2改性工艺的研究 | 第49-55页 |
4.2.1 水热温度对改性的影响 | 第49-52页 |
4.2.2 预氧化对改性的影响 | 第52-53页 |
4.2.3 分散剂对改性的影响 | 第53-55页 |
4.3 GNS/TiO_2与GNS的对比表征 | 第55-62页 |
4.3.1 透射电镜 | 第55-57页 |
4.3.2 X射线衍射分析 | 第57-58页 |
4.3.3 比表面积对比 | 第58-59页 |
4.3.4 红外光谱对比 | 第59页 |
4.3.5 热重分析对比 | 第59-61页 |
4.3.6 Zeta电位对比 | 第61-62页 |
4.3.7 粉末电阻率对比 | 第62页 |
4.4 GNS/TiO_2发热性能的研究 | 第62-66页 |
4.4.1 发热性能测试 | 第62-63页 |
4.4.2 加速寿命对比 | 第63-64页 |
4.4.3 性能提升原理 | 第64-66页 |
4.5 本章小结 | 第66-68页 |
结论 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-76页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及其他成果 | 第76-78页 |
致谢 | 第78页 |