| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-12页 |
| 1.1 半导体研究历史与背景 | 第9-10页 |
| 1.2 稀磁半导体的铁磁性能 | 第10-11页 |
| 1.3 选题的研究目的及意义 | 第11-12页 |
| 第2章 实验方法及原理 | 第12-20页 |
| 2.1 样品的制备 | 第12-14页 |
| 2.1.1 样品配比及称量 | 第12页 |
| 2.1.2 实验设备及熔炼过程 | 第12-13页 |
| 2.1.3 退火热处理 | 第13-14页 |
| 2.2 物相鉴定 | 第14-17页 |
| 2.2.1 X射线粉末衍射法原理 | 第14-15页 |
| 2.2.2 X射线的衍射强度 | 第15-17页 |
| 2.2.2.1 一个电子的散射波强度 | 第15-16页 |
| 2.2.2.2 X射线照射一个原子时产生的散射 | 第16页 |
| 2.2.2.3 X射线照射一个晶胞时产生的散射 | 第16-17页 |
| 2.3 TREOR程序指标化 | 第17-19页 |
| 2.4 diamond软件 | 第19-20页 |
| 第3章 RCo_xIn_(3-x)合金的实验结果与分析 | 第20-47页 |
| 3.1 样品称重 | 第20-21页 |
| 3.2 PrCo_xIn_(3-x)系列合金衍射图谱 | 第21-32页 |
| 3.2.1 PrCo_xIn_(3-x) (x=0~0.6)物相检索 | 第21-25页 |
| 3.2.2 PrCo_xIn_(3-x) (x=1.8~2.2)物相检索 | 第25-28页 |
| 3.2.3 PrCo_xIn_(3-x) (x=2.5~3.0)物相检索 | 第28-32页 |
| 3.3 PrCo_xIn_(3-x)系列合金指标化结果 | 第32-47页 |
| 第4章 结论与展望 | 第47-49页 |
| 4.1 实验结论 | 第47页 |
| 4.2 今后工作的展望 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52页 |
