摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 前言 | 第12-15页 |
1.1 研究背景及意义 | 第12-13页 |
1.2 研究目的与内容 | 第13-15页 |
第二章 文献综述 | 第15-29页 |
2.1 甲酸甲酯生产概述 | 第15-17页 |
2.1.1 甲酸甲酯的性质与应用 | 第15页 |
2.1.2 甲酸甲酯的合成方法 | 第15-17页 |
2.2 半导体光催化技术的发展与原理 | 第17-21页 |
2.2.1 半导体光催化技术的发展与应用 | 第17-18页 |
2.2.2 半导体光催化原理 | 第18-20页 |
2.2.3 半导体光催化剂的改性 | 第20-21页 |
2.3 纳米ZnO光催化材料 | 第21-25页 |
2.3.1 纳米ZnO概述 | 第21-22页 |
2.3.2 纳米ZnO制备方法 | 第22-23页 |
2.3.3 纳米ZnO在光催化中的改性与应用 | 第23-25页 |
2.4 水滑石类化合物概述 | 第25-29页 |
2.4.1 类水滑石化合物(LDHs)合成方法 | 第26页 |
2.4.2 类水滑石化合物(LDHs)性质 | 第26-27页 |
2.4.3 类水滑石化合物(LDHs)在光催化中的应用 | 第27-29页 |
第三章 实验部分 | 第29-36页 |
3.1 实验试剂与仪器 | 第29-30页 |
3.2 催化剂的制备 | 第30-33页 |
3.3 催化剂的表征 | 第33-34页 |
3.3.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第33页 |
3.3.2 透射电镜分析(TEM) | 第33页 |
3.3.3 比表面积与孔结构(BET) | 第33页 |
3.3.4 紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS) | 第33页 |
3.3.5 H_2-程序升温还原(H_2-TPR) | 第33-34页 |
3.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第34页 |
3.3.7 傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第34页 |
3.4 催化剂活性测试 | 第34-36页 |
3.4.1 催化反应装置 | 第34-35页 |
3.4.2 活性数据计算 | 第35-36页 |
第四章 催化剂的筛选 | 第36-44页 |
4.1 X射线粉末衍射(XRD)分析 | 第36-37页 |
4.2 透射电镜(TEM)分析 | 第37-39页 |
4.3 固体紫外(UV-Vis)分析 | 第39-40页 |
4.4 催化剂活性测试 | 第40-44页 |
4.4.1 7Cu/ZnO-(y)Al_2O_3系列催化剂的活性测试 | 第40-41页 |
4.4.2 三种催化剂的活性对比测试 | 第41-44页 |
第五章 不同Zn:Al:Cu摩尔比及焙烧温度下催化剂xCu/H-ZnO-y(z)的表征及活性测试 | 第44-69页 |
5.1 不同Zn:Al:Cu摩尔比及焙烧温度下催化剂的表征 | 第44-58页 |
5.1.1 X射线粉末衍射(XRD)分析 | 第44-45页 |
5.1.2 透射电镜图(TEM)分析 | 第45-52页 |
5.1.3 表面积与孔结构(BET)分析 | 第52-53页 |
5.1.4 紫外-可见漫反射(UV-Vis)分析 | 第53-54页 |
5.1.5 H_2-程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第54-56页 |
5.1.6 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第56页 |
5.1.7 红外光谱(FTIR)分析 | 第56-58页 |
5.2 不同Zn:Al:Cu摩尔比及焙烧温度下催化剂的活性评价 | 第58-61页 |
5.3 反应过程中催化剂中Cu物种的变化 | 第61-64页 |
5.3.1 透射电镜(TEM)分析 | 第61-62页 |
5.3.2 紫外-可见漫反射(UV-Vis)分析 | 第62-63页 |
5.3.3 H_2-程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第63-64页 |
5.4 测试条件变化对催化剂的活性影响 | 第64-69页 |
5.4.1 光强对催化活性的影响 | 第64-65页 |
5.4.2 甲醇分压对催化活性的影响 | 第65-66页 |
5.4.3 氧分压对催化活性的影响 | 第66-67页 |
5.4.4 反应温度对催化活性的影响 | 第67-69页 |
第六章 反应机理分析 | 第69-72页 |
第七章 结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
硕士期间发表的论文 | 第86-87页 |