| 中文摘要 | 第4-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第15-52页 |
| 1.1 过渡金属氮化物薄膜的主要应用领域 | 第15页 |
| 1.2 过渡金属氮化物薄膜的制备方法 | 第15-18页 |
| 1.2.1 磁控溅射（MS） | 第16页 |
| 1.2.2 化学气相沉积（CVD） | 第16-17页 |
| 1.2.3 分子束外延（MBE） | 第17页 |
| 1.2.4 过滤阴极电弧真空沉积（FCA） | 第17-18页 |
| 1.3 过渡金属氮化物薄膜的结构 | 第18-31页 |
| 1.3.1 相结构 | 第18-19页 |
| 1.3.2 电子结构 | 第19-21页 |
| 1.3.3 点缺陷 | 第21-25页 |
| 1.3.4 相转变 | 第25-31页 |
| 1.4 过渡金属氮化物薄膜的力学性质 | 第31-36页 |
| 1.4.1 硬度和弹性模量 | 第31-33页 |
| 1.4.2 表面形貌 | 第33-35页 |
| 1.4.3 应力 | 第35-36页 |
| 1.5 过渡金属氮化物薄膜的光学和电学性质 | 第36-49页 |
| 1.5.1 反射光谱 | 第36-43页 |
| 1.5.2 透射光谱 | 第43-45页 |
| 1.5.3 光学常数 | 第45-47页 |
| 1.5.4 电导特性 | 第47-49页 |
| 1.6 本文选题依据及研究内容 | 第49-52页 |
| 第2章 氮化铪和氮化铪钽薄膜的磁控溅射制备及表征方法 | 第52-59页 |
| 2.1 磁控溅射的工作原理 | 第52-54页 |
| 2.2 磁控溅射制备氮化铪和氮化铪钽薄膜的实验方法 | 第54-55页 |
| 2.3 氮化铪和氮化铪钽薄膜的表征方法 | 第55-56页 |
| 2.4 光反射光谱的德鲁德-洛伦兹（Drude?Lorentz）模型拟合 | 第56-58页 |
| 2.5 理论计算方法 | 第58-59页 |
| 第3章 岩盐氮化铪薄膜点缺陷的辨认及其对电子结构和光反射的影响 | 第59-79页 |
| 3.1 引言 | 第59-60页 |
| 3.2 实验与计算详述 | 第60页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第60-78页 |
| 3.3.1 点缺陷的辨认与形成原因 | 第60-68页 |
| 3.3.2 点缺陷对于光反射的调制作用及物理机制 | 第68-78页 |
| 3.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 第4章 离子轰击对岩盐相氮化铪薄膜光学和电学性质的改善及物理机制 | 第79-96页 |
| 4.1 引言 | 第79-80页 |
| 4.2 实验与计算详述 | 第80页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第80-94页 |
| 4.3.1 衬底偏压引起的空位浓度的变化 | 第80-85页 |
| 4.3.2 衬底偏压引起的电导率的演变及其物理机制 | 第85-88页 |
| 4.3.3 衬底偏压引起的光反射的演变及其物理机制 | 第88-94页 |
| 4.4 本章小结 | 第94-96页 |
| 第5章 氮化铪薄膜相变的辨认与光学、电学性质的演变 | 第96-110页 |
| 5.1 引言 | 第96-97页 |
| 5.2 实验与计算详述 | 第97页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第97-109页 |
| 5.3.1“富氮相”结构的辨认 | 第97-100页 |
| 5.3.2 相变过程中的结构演变 | 第100-103页 |
| 5.3.3 相变的物理机制 | 第103-107页 |
| 5.3.4 相变引起的光学和电学性质的演变 | 第107-109页 |
| 5.4 本章小结 | 第109-110页 |
| 第6章 钽引入对氮化铪薄膜光反射及硬度的改善 | 第110-125页 |
| 6.1 引言 | 第110页 |
| 6.2 实验与计算详述 | 第110-111页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第111-124页 |
| 6.3.1 钽引入对氮化铪薄膜光反射的影响 | 第111-117页 |
| 6.3.2 钽引入对氮化铪薄膜结构和电子结构的影响 | 第117-123页 |
| 6.3.3 钽引入对氮化铪薄膜硬度的影响 | 第123-124页 |
| 6.4 本章小结 | 第124-125页 |
| 第7章 本文结论 | 第125-127页 |
| 参考文献 | 第127-146页 |
| 作者简历 | 第146-148页 |
| 攻读博士学位期间所获得的科研成果 | 第148-150页 |
| 致谢 | 第150页 |
