化学气相沉积硅薄膜的制备与研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-29页 |
| ·硅薄膜概述 | 第10页 |
| ·硅薄膜的分类、性能及研究进展 | 第10-15页 |
| ·单晶硅薄膜 | 第11页 |
| ·多晶硅薄膜 | 第11页 |
| ·非晶硅薄膜 | 第11-12页 |
| ·纳米硅薄膜 | 第12-13页 |
| ·二氧化硅薄膜 | 第13页 |
| ·氮化硅薄膜 | 第13-14页 |
| ·氮氧化硅薄膜 | 第14页 |
| ·碳化硅薄膜 | 第14-15页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第15-20页 |
| ·化学气相沉积工艺基本原理 | 第16-17页 |
| ·硅薄膜的制备原理及流程 | 第17页 |
| ·薄膜沉积的影响因素 | 第17-18页 |
| ·沉积工艺对薄膜结构性能的影响 | 第18-20页 |
| ·提高薄膜附着力的途径 | 第20页 |
| ·常用的化学气相沉积工艺 | 第20-25页 |
| ·等离子体化学气相沉积（PCVD） | 第20-21页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积（ECRPCVD） | 第21页 |
| ·激光化学气相沉积(LCVD) | 第21页 |
| ·热激活化学气相沉积（RTCVD） | 第21-22页 |
| ·等离子增强化学气相沉积（PECVD） | 第22-23页 |
| ·光辅助化学气相沉积（PACVD） | 第23-24页 |
| ·金属有机物化学气相沉积（MOCVD） | 第24-25页 |
| ·镀膜材料的性能及应用 | 第25-27页 |
| ·镀膜金属的性能及应用 | 第25页 |
| ·镀膜玻璃的性能及应用 | 第25-27页 |
| ·本课题研究的内容及意义 | 第27-28页 |
| ·本课题的创新点 | 第28-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-35页 |
| ·实验原料和仪器设备 | 第29-31页 |
| ·实验原料 | 第29页 |
| ·实验设备 | 第29-30页 |
| ·实验仪器 | 第30-31页 |
| ·硅薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·基板清洗 | 第31页 |
| ·硅薄膜的制备工艺流程 | 第31-32页 |
| ·硅薄膜性能测试 | 第32-35页 |
| ·EDS能谱分析 | 第32页 |
| ·耐酸腐蚀实验 | 第32页 |
| ·电化学测试 | 第32页 |
| ·接触角测试 | 第32-33页 |
| ·扫描电镜测试 | 第33页 |
| ·附着力测试 | 第33-34页 |
| ·X射线衍射分析 | 第34页 |
| ·拉曼光谱 | 第34页 |
| ·紫外可见光光谱测试 | 第34-35页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第35-64页 |
| ·不锈钢表面硅薄膜组成与结构分析 | 第35-36页 |
| ·镀膜条件对不锈钢板表面硅薄膜性能的影响 | 第36-49页 |
| ·镀膜温度对不锈钢表面硅薄膜性能的影响 | 第36-41页 |
| ·硅烷压力对不锈钢表面硅薄膜性能的影响 | 第41-44页 |
| ·镀膜时间对不锈钢表面硅薄膜性能的影响 | 第44-49页 |
| ·镀膜条件对玻璃表面硅薄膜性能的影响 | 第49-60页 |
| ·镀膜温度对玻璃表面硅薄膜性能的影响 | 第49-52页 |
| ·硅烷压力对玻璃表面硅薄膜性能的影响 | 第52-55页 |
| ·镀膜时间对玻璃表面硅薄膜性能的影响 | 第55-60页 |
| ·X射线衍射谱分析 | 第60-61页 |
| ·拉曼光谱测试 | 第61页 |
| ·薄膜透光率性能测试 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 第四章 结论与展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 附录 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第69页 |
