分布反馈光栅对聚合物薄膜受激辐射的调节和爆炸物探测
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
·引言 | 第10页 |
·有机半导体聚合物 | 第10-20页 |
·有机半导体聚合物与激光原理 | 第10-11页 |
·聚合物的分类 | 第11-12页 |
·聚合物的发光特性 | 第12页 |
·聚合物的自发辐射和受激辐射 | 第12页 |
·半导体聚合物的用途 | 第12-15页 |
·聚合物发光二极管 | 第12-14页 |
·聚合物太阳能电池 | 第14页 |
·聚合物材料的传感功能 | 第14-15页 |
·爆炸物检测技术 | 第15-20页 |
·常用的方法 | 第15-16页 |
·痕量检测技术 | 第16-17页 |
·波谱探测技术 | 第17-18页 |
·MEMS传感技术 | 第18页 |
·声表面波传感技术 | 第18-19页 |
·生物传感技术 | 第19页 |
·化学传感技术 | 第19-20页 |
·基于分子链荧光聚合物的化学传感技术 | 第20-23页 |
·分子链荧光聚合物的分子导线放大效应 | 第20页 |
·基于分子链荧光聚合物的爆炸物探测检测原理 | 第20-21页 |
·基于荧光共轭聚合物的爆炸物探测器的发展现状 | 第21-22页 |
·提高检测灵敏度的方法 | 第22-23页 |
·选题意义及内容安排 | 第23-24页 |
第二章 光栅与分布反馈光栅 | 第24-30页 |
·引言 | 第24页 |
·衍射光栅的历史 | 第24-25页 |
·光纤布拉格光栅 | 第25页 |
·分布反馈光栅 | 第25-26页 |
·光栅的制作技术 | 第26页 |
·全息光刻光栅的制作流程 | 第26-29页 |
·基片的处理 | 第27页 |
·涂胶 | 第27页 |
·劳埃曝光光路 | 第27-28页 |
·曝光与显影时间控制 | 第28-29页 |
·刻蚀 | 第29页 |
·本章小结 | 第29-30页 |
第三章 DFB光栅薄膜的受激辐射和DNT探测 | 第30-44页 |
·聚合物PPE与聚合物薄膜 | 第30-31页 |
·半导体聚合物的选择和合成 | 第30-31页 |
·聚合物薄膜的制备 | 第31页 |
·荧光聚合物探测 | 第31-35页 |
·荧光聚合物探测系统 | 第31-32页 |
·荧光聚合物的特征曲线 | 第32-35页 |
·平面光波导层 | 第35-36页 |
·DFB光栅的调制作用 | 第36-44页 |
·光栅的设计理论 | 第36-37页 |
·光栅的制作和表征 | 第37-38页 |
·光栅的ASE表征 | 第38-39页 |
·阈值 | 第39-40页 |
·光栅刻蚀深度的影响 | 第40-41页 |
·荧光淬灭与DNT探测 | 第41-44页 |
第四章 总结与展望 | 第44-48页 |
·本文总结 | 第44-45页 |
·本文的创新点 | 第45页 |
·后续的工作 | 第45-48页 |
参考文献 | 第48-54页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第54-56页 |
致谢 | 第56-57页 |