基于外差干涉技术的纳米定位方法研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-14页 |
| 1 绪论 | 第14-22页 |
| ·研究背景及意义 | 第14页 |
| ·国内外研究现状及趋势 | 第14-20页 |
| ·压电陶瓷驱动器相关研究 | 第15-17页 |
| ·双频激光干涉仪在纳米定位中的应用研究 | 第17-20页 |
| ·本选题的研究意义及主要研究工作 | 第20-22页 |
| 2 外差干涉测长原理 | 第22-35页 |
| ·光的干涉 | 第22-24页 |
| ·光的偏振 | 第24-26页 |
| ·多普勒原理 | 第26-28页 |
| ·双频氦氖激光器 | 第28-29页 |
| ·双频外差激光干涉仪测长原理 | 第29-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 3 外差干涉纳米定位系统软件设计 | 第35-43页 |
| ·数据采集 | 第36-39页 |
| ·数据处理 | 第39页 |
| ·参数求解 | 第39-40页 |
| ·波形显示 | 第40-41页 |
| ·程序框图与前面板 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 4 外差干涉纳米定位系统的建立 | 第43-56页 |
| ·纳米定位系统光路建立 | 第44-48页 |
| ·压电陶瓷迟滞蠕变特性的测量与分析 | 第48-54页 |
| ·压电陶瓷非线性特性 | 第48-52页 |
| ·压电陶瓷蠕变特性 | 第52-53页 |
| ·定位系统位移测量重复性误差 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-56页 |
| 5 误差源分析与抑制 | 第56-69页 |
| ·余弦误差 | 第56-57页 |
| ·阿贝误差 | 第57-59页 |
| ·环境误差 | 第59-61页 |
| ·光源误差 | 第61页 |
| ·光学误差 | 第61-68页 |
| ·系统误差评定 | 第68页 |
| ·小结 | 第68-69页 |
| 6 系统改进 | 第69-75页 |
| ·相控纳米定位系统 | 第69-74页 |
| ·已完成工作 | 第70-73页 |
| ·改进方案系统光路 | 第73-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| 7 工作总结与展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 附录 | 第79-80页 |
| 作者简历 | 第80页 |
