| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·课题研究背景 | 第7-8页 |
| ·干涉滤波片的发展现状 | 第8-9页 |
| ·研究目的与内容 | 第9-10页 |
| 第二章 薄膜光学的基本理论 | 第10-19页 |
| ·薄膜光谱值的计算 | 第10-11页 |
| ·单层介质薄膜的反射率 | 第11-13页 |
| ·多层薄膜的特性计算 | 第13页 |
| ·对称膜系的等效层 | 第13-15页 |
| ·光谱通带的计算 | 第15-19页 |
| 第三章 膜系设计 | 第19-25页 |
| ·膜料的要求和选择 | 第19-21页 |
| ·膜系设计 | 第21-25页 |
| 第四章 窄带滤波片的镀制 | 第25-38页 |
| ·真空镀膜设备简介 | 第25-28页 |
| ·真空镀膜机的工作原理及影响 | 第28-31页 |
| ·膜厚监控技术 | 第31-34页 |
| ·基片镀制前的预理 | 第34页 |
| ·薄膜制备的工艺流程 | 第34-36页 |
| ·滤光膜的测试 | 第36-38页 |
| 第五章 滤光膜误差分析 | 第38-40页 |
| ·光学特性的不稳定性 | 第38页 |
| ·监控系统误差误差 | 第38页 |
| ·光学色散误差 | 第38-39页 |
| ·测量系统误差 | 第39-40页 |
| 第六章 结论 | 第40-41页 |
| 致谢 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42页 |