微波烧结ITO靶材研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-24页 |
| ·透明导电ITO薄膜的研究 | 第8-11页 |
| ·ITO薄膜的结构 | 第8-9页 |
| ·ITO薄膜的半导体特性 | 第9页 |
| ·ITO薄膜的电学性质 | 第9-10页 |
| ·ITO薄膜的光学性质 | 第10页 |
| ·ITO薄膜制备技术 | 第10页 |
| ·ITO薄膜的应用 | 第10-11页 |
| ·ITO靶材 | 第11-13页 |
| ·概述 | 第11页 |
| ·ITO靶材的研究现状 | 第11-12页 |
| ·ITO靶材的发展趋势 | 第12页 |
| ·ITO靶材的制造技术 | 第12-13页 |
| ·微波烧结技术 | 第13-22页 |
| ·微波的基本概念 | 第13-15页 |
| ·微波烧结设备 | 第15页 |
| ·微波加热技术特征 | 第15-18页 |
| ·微波烧结陶瓷材料 | 第18-22页 |
| ·论文选题及主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 基本工艺与实验过程 | 第24-28页 |
| ·微波烧结设备 | 第24-25页 |
| ·实验工艺流程 | 第25页 |
| ·原料粉末技术参数 | 第25-26页 |
| ·压制及烧结工艺 | 第26页 |
| ·性能测试与分析方法 | 第26-28页 |
| ·密度和孔隙度 | 第26-27页 |
| ·收缩率 | 第27页 |
| ·X—ray衍射分析(XRD) | 第27页 |
| ·扫描电镜及显微结构分析 | 第27页 |
| ·晶粒尺寸测量 | 第27-28页 |
| 第三章 微波烧结ITO靶材工艺研究 | 第28-42页 |
| ·微波烧结 | 第29-31页 |
| ·微波烧结的辅助加热材料 | 第29-30页 |
| ·微波烧结中的热点和热失控 | 第30页 |
| ·微波烧结ITO靶材避免热点与热失控出现的措施 | 第30-31页 |
| ·烧结温度和保温时间 | 第31-35页 |
| ·升温速度 | 第35-39页 |
| ·升温曲线 | 第36页 |
| ·不同升温速度下制备的靶材性能 | 第36-37页 |
| ·显微组织分析 | 第37-39页 |
| ·压制压力对微波烧结ITO靶材性能的影响 | 第39-41页 |
| ·不同压制压力下制备的压坯对微波吸收效率的影响 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 微波烧结ITO靶材的机理探讨 | 第42-56页 |
| ·致密化行为 | 第42页 |
| ·烧结致密化的基本过程 | 第42-49页 |
| ·烧结温度对靶材致密化的影响 | 第43-45页 |
| ·烧结温度对靶材显微组织的影响 | 第45-47页 |
| ·保温时间对靶材致密化的影响 | 第47-48页 |
| ·保温时间对靶材显微组织的影响 | 第48-49页 |
| ·升温速度对靶材致密化的影响 | 第49页 |
| ·ITO粉末压制时压坯密度的变化规律 | 第49-52页 |
| ·压制压力对靶材致密化的影响 | 第49-50页 |
| ·压制压力对靶材显微组织的影响 | 第50-52页 |
| ·微波烧结制备的ITO靶材的性能 | 第52-55页 |
| ·两种靶材密度对比 | 第53页 |
| ·两种靶材成分均匀性对比 | 第53页 |
| ·两种靶材氧含量对比 | 第53-54页 |
| ·微波烧结制备的ITO靶材的相结构 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 作者在硕士期间发表的论文 | 第66页 |
