| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| ·垂直腔面发射激光器的发展历程 | 第11-13页 |
| ·基横模垂直腔面发射激光器 | 第13-18页 |
| ·偏振控制垂直腔面发射激光器 | 第18-20页 |
| ·光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第20-23页 |
| ·本文的主要工作 | 第23-25页 |
| ·论文的内容安排 | 第25-27页 |
| 第2章 垂直腔面发射激光器的基本原理 | 第27-43页 |
| ·垂直腔面发射激光器的基本理论 | 第27-34页 |
| ·垂直腔面发射激光器的基本结构 | 第28-30页 |
| ·垂直腔面发射激光器的性能参数 | 第30-34页 |
| ·垂直腔面发射激光器的模式特性 | 第34-38页 |
| ·垂直腔面发射激光器的纵模特性 | 第34-36页 |
| ·垂直腔面发射激光器的横模特性 | 第36-38页 |
| ·垂直腔面发射激光器的偏振控制 | 第38-41页 |
| ·四能级偏振垂直腔面发射激光器模型 | 第38-39页 |
| ·垂直腔面发射激光器的偏振方程 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第3章 基横模垂直腔面发射激光器理论分析 | 第43-73页 |
| ·光子晶体垂直腔面发射激光器的模拟 | 第43-52页 |
| ·光子晶体光纤模型 | 第43-46页 |
| ·光学微腔模型 | 第46-49页 |
| ·两种模型模拟结果比较 | 第49-52页 |
| ·低阈值光子晶体垂直腔面发射激光器结构分析 | 第52-62页 |
| ·低阈值器件设计 | 第52页 |
| ·氧化孔与光子晶体双重限制结构器件特性分析 | 第52-59页 |
| ·光子晶体空气孔形状对器件模式特性影响 | 第59-62页 |
| ·分布孔结构垂直腔面发射激光器结构分析 | 第62-67页 |
| ·分布孔结构对器件特性影响 | 第63-64页 |
| ·氧化孔结构对器件模式特性影响 | 第64-67页 |
| ·表面浅刻蚀垂直腔面发射激光器结构分析 | 第67-70页 |
| ·表面浅刻蚀图形刻蚀深度对器件模式特性影响 | 第68-69页 |
| ·表面浅刻蚀图形内径尺寸对器件模式特性影响 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-73页 |
| 第4章 基横模垂直腔面发射激光器关键工艺研究 | 第73-93页 |
| ·基横模垂直腔面发射激光器工艺流程 | 第73-75页 |
| ·光子晶体垂直腔面发射激光器工艺流程 | 第73-74页 |
| ·分布孔结构垂直腔面发射激光器工艺流程 | 第74页 |
| ·表面浅刻蚀垂直腔面发射激光器工艺流程 | 第74-75页 |
| ·制备垂直腔面发射激光器关键工艺研究 | 第75-83页 |
| ·侧面绝缘工艺 | 第75-79页 |
| ·高质量 P 型电极制备 | 第79-81页 |
| ·湿法氧化工艺 | 第81-83页 |
| ·制备光子晶体结构和分布孔结构关键工艺研究 | 第83-89页 |
| ·光子晶体结构和分布孔结构的电子束光刻 | 第83-84页 |
| ·光子晶体结构和分布孔结构的 ICP 刻蚀研究 | 第84-87页 |
| ·光子晶体垂直腔面发射激光器的自对准工艺 | 第87-89页 |
| ·制备表面浅刻蚀图形关键工艺研究 | 第89-92页 |
| ·表面浅刻蚀图形的普通光刻和电子束光刻 | 第89-90页 |
| ·表面浅刻蚀图形的湿法腐蚀 | 第90-91页 |
| ·表面浅刻蚀图形的 ICP 刻蚀 | 第91-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 第5章 基横模垂直腔面发射激光器测试分析 | 第93-109页 |
| ·垂直腔面发射激光器测试分析 | 第93-98页 |
| ·垂直腔面发射激光器的测试设备 | 第93-94页 |
| ·垂直腔面发射激光器性能测试 | 第94-98页 |
| ·光子晶体垂直腔面发射激光器测试分析 | 第98-100页 |
| ·单孔缺陷器件测试分析 | 第98-99页 |
| ·多孔缺陷器器件测试分析 | 第99-100页 |
| ·低阈值电流光子晶体垂直腔面发射激光器测试分析 | 第100-104页 |
| ·光子晶体结构对器件阈值电流影响 | 第101-102页 |
| ·氧化孔径对器件阈值电流影响 | 第102-103页 |
| ·低阈值电流基横模垂直腔面发射激光器 | 第103-104页 |
| ·分布孔结构器件和表面浅刻蚀垂直腔面发射激光器测试分析 | 第104-107页 |
| ·分布孔结构垂直腔面发射激光器测试分析 | 第104-105页 |
| ·表面浅刻蚀垂直腔面发射激光器测试分析 | 第105-107页 |
| ·本章小结 | 第107-109页 |
| 第6章 基横模偏振控制垂直腔面发射激光器 | 第109-125页 |
| ·偏振控制光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第109-112页 |
| ·光子晶体的双折射作用 | 第109-110页 |
| ·椭圆光子晶体孔偏振相关损耗 | 第110-112页 |
| ·正方晶格光子晶体结构偏振控制原理 | 第112页 |
| ·偏振控制椭圆空气孔光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第112-116页 |
| ·光子晶体光纤的双折射效应 | 第113页 |
| ·椭圆空气孔光子晶体垂直腔面发射激光器的损耗分析 | 第113-115页 |
| ·椭圆空气孔光子晶体器件制备 | 第115-116页 |
| ·低阈值电流椭圆空气孔器件 | 第116页 |
| ·菱形氧化孔光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第116-123页 |
| ·菱形氧化孔制备工艺 | 第116-118页 |
| ·菱形氧化孔的双折射作用 | 第118页 |
| ·菱形氧化孔光子晶体垂直腔面发射激光器 | 第118-121页 |
| ·菱形氧化孔器件测试 | 第121-123页 |
| ·结论 | 第123页 |
| ·本章小结 | 第123-125页 |
| 结论 | 第125-127页 |
| 参考文献 | 第127-139页 |
| 攻读博士学位期间所发表的学术论文 | 第139-141页 |
| 致谢 | 第141-142页 |