热丝CVD大面积金刚石厚膜的制备研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| ·金刚石的结构及性质 | 第9-11页 |
| ·金刚石的结构 | 第9-10页 |
| ·金刚石的性质 | 第10-11页 |
| ·金刚石膜的应用 | 第11-15页 |
| ·金刚石膜在机械方面的应用 | 第11-12页 |
| ·金刚石膜在热学方面的应用 | 第12-13页 |
| ·金刚石膜在光学方面的应用 | 第13-14页 |
| ·金刚石膜在声学方面的应用 | 第14页 |
| ·金刚石膜在半导体方面的应用 | 第14-15页 |
| ·金刚石膜生长方法 | 第15-18页 |
| ·热丝法 | 第15页 |
| ·微波 CVD 法 | 第15-16页 |
| ·直流电弧等离子体法 | 第16-17页 |
| ·磁控等离子体法（ECR） | 第17-18页 |
| ·金刚石膜的测试方法 | 第18-20页 |
| ·人造金刚石膜的生长机理简介 | 第20-21页 |
| ·新法生长金刚石膜研究简介 | 第21-23页 |
| ·大面积生长的热丝法 | 第21-22页 |
| ·金刚石膜微波等离子生长方法的新发展 | 第22-23页 |
| ·电弧法生长金刚石膜 | 第23页 |
| ·本论文的研究意义和研究内容 | 第23-25页 |
| ·制备大面积金刚石厚膜的意义 | 第23-24页 |
| ·本论文的研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 热丝法生长金刚石厚膜制备 | 第25-48页 |
| ·生长金刚石厚膜设备的更新改造 | 第25-35页 |
| ·大面积平整灯丝栅 | 第25-27页 |
| ·底座的制造 | 第27-31页 |
| ·灯丝的选择 | 第31-33页 |
| ·脉冲等离子体 | 第33-35页 |
| ·实验的工艺流程 | 第35-40页 |
| ·气体的准备 | 第35-38页 |
| ·灯丝温度的测试 | 第38页 |
| ·灯丝的制作 | 第38页 |
| ·衬底处理 | 第38页 |
| ·装机及开机过程 | 第38-40页 |
| ·样品及表征手段 | 第40-43页 |
| ·实验样品 | 第40页 |
| ·表征手段 | 第40-43页 |
| ·金刚石的真空焊接 | 第43-46页 |
| ·焊接方法 | 第43-45页 |
| ·金刚石片的起层与内应力 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-48页 |
| 第三章 金刚石膜生长的影响因素及机理探讨 | 第48-61页 |
| ·工艺条件对金刚石膜生长的影响 | 第48-55页 |
| ·灯丝温度与 C/H2 的关系 | 第48-49页 |
| ·生长速率、金刚石质量与碳氢比的关系 | 第49-51页 |
| ·金刚石质量与衬底温度的关系 | 第51-52页 |
| ·衬底温度与生长速率的关系 | 第52-53页 |
| ·生长速率与气体含氧量的关系 | 第53-54页 |
| ·渗氮对金刚石生长速率的影响 | 第54-55页 |
| ·气压对金刚石生长的关系 | 第55页 |
| ·CVD 金刚石生长的机理探讨 | 第55-59页 |
| ·CVD 金刚石生长系统中的氢原子 | 第55-56页 |
| ·H·CH4 是金刚石生长的活性物质 | 第56-59页 |
| ·小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 附录 A ：攻读硕士期间所发表的论文 | 第66页 |
