NiO阻变器件的制备及其电学特性分析
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·阻变存储器的基本结构 | 第11-12页 |
| ·具有阻变特性的材料体系 | 第12页 |
| ·阻变的基本机理 | 第12-13页 |
| ·NiO 的晶格结构 | 第13-14页 |
| ·NiO 薄膜的研究现状 | 第14-17页 |
| ·目前国内外研究取得的进展 | 第14-16页 |
| ·目前国内外研究仍然存在的问题 | 第16-17页 |
| ·本论文主要研究的内容 | 第17-18页 |
| 第二章 NiO 阻变器件的制备和表征 | 第18-24页 |
| ·NiO 阻变器件的制备 | 第18-20页 |
| ·NiO 薄膜的制备方法 | 第18页 |
| ·多功能磁控与离子束联合溅射沉积系统 | 第18-19页 |
| ·BE/NiO/TE 三明治结构的制备 | 第19-20页 |
| ·NiO 薄膜性能表征 | 第20-22页 |
| ·XRD 分析 | 第20页 |
| ·AFM 分析 | 第20-21页 |
| ·台阶仪 | 第21-22页 |
| ·NiO 薄膜电学性能的表征 | 第22-24页 |
| 第三章 NiO 薄膜沉积及微结构分析 | 第24-30页 |
| ·NiO 薄膜沉积工艺参数 | 第24-25页 |
| ·氧分压对NiO 薄膜晶格结构的影响 | 第25-29页 |
| ·NiO 薄膜的XRD 分析 | 第25-26页 |
| ·NiO 薄膜的AFM 分析 | 第26-29页 |
| ·氧分压对NiO 薄膜沉积速率的影响 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第四章 NiO 阻变器件的阻变性能及阻变机理探索 | 第30-47页 |
| ·NiO 薄膜晶格结构以及厚度对阻变性能的影响 | 第30-38页 |
| ·晶格结构对阻变性能的影响 | 第30-34页 |
| ·薄膜厚度对阻变性能的影响 | 第34-38页 |
| ·电极对薄膜阻变性能的影响 | 第38-45页 |
| ·电极材质对阻变性能的影响 | 第38-43页 |
| ·下电极厚度对阻变性能的影响 | 第43-45页 |
| ·NiO 薄膜阻变机理的探索 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 主要结论 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-58页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
