化学共沉淀法制备纳米ITO粉体的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-33页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·我国铟资源及开发现状 | 第12-16页 |
| ·纳米ITO材料的性质与应用 | 第16-23页 |
| ·纳米材料的特性 | 第16-18页 |
| ·ITO的晶体结构 | 第18-20页 |
| ·ITO的导电机理 | 第20-21页 |
| ·ITO材料的应用 | 第21-23页 |
| ·ITO粉体的制备方法 | 第23-26页 |
| ·化学共沉淀法 | 第24页 |
| ·水热法 | 第24页 |
| ·乳液法 | 第24-25页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第25页 |
| ·喷雾热解法 | 第25页 |
| ·喷雾燃烧法 | 第25-26页 |
| ·其它制备方法 | 第26页 |
| ·ITO产业国内外发展及现状 | 第26-30页 |
| ·ITO产业的发展 | 第26-28页 |
| ·国内产业现状 | 第28-29页 |
| ·国外产业现状 | 第29-30页 |
| ·课题的提出及意义 | 第30-31页 |
| ·课题研究的内容 | 第31-33页 |
| 第二章 共沉淀法制备纳米ITO粉体的理论分析 | 第33-46页 |
| ·化学共沉淀法制备ITO粉体的过程分析 | 第33页 |
| ·前驱体纳米粒子形成的热力学及动力学分析 | 第33-38页 |
| ·纳米粒子成核的驱动力 | 第34-35页 |
| ·纳米粒子形成的条件 | 第35-36页 |
| ·纳米粒子的成核速率 | 第36-37页 |
| ·纳米粒子的生长速率 | 第37-38页 |
| ·前驱体的后处理 | 第38-41页 |
| ·干燥与煅烧 | 第38-39页 |
| ·半导化处理 | 第39-41页 |
| ·纳米粒子团聚与分散 | 第41-45页 |
| ·纳米粉体团聚的原因 | 第41-43页 |
| ·纳米粉体团聚的解决 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 纳米ITO粉体制备工艺设计 | 第46-61页 |
| ·实验原料 | 第46-47页 |
| ·试验设备与装置 | 第47-48页 |
| ·实验方案 | 第48-57页 |
| ·试验原料的选择 | 第49-50页 |
| ·理论计算 | 第50-51页 |
| ·铟的溶解 | 第51-52页 |
| ·沉淀反应 | 第52-53页 |
| ·陈化过程 | 第53页 |
| ·洗涤过滤 | 第53-54页 |
| ·真空干燥 | 第54-55页 |
| ·煅烧处理 | 第55页 |
| ·试验中各因素及水平的选择 | 第55-57页 |
| ·分析方法与分析设备 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 试验结果分析与讨论 | 第61-81页 |
| ·试验结果分析与讨论 | 第61-79页 |
| ·前驱体的示差扫描热法及热重分析 | 第61-62页 |
| ·前驱体及ITO粉的XRD分析 | 第62-64页 |
| ·前驱体及ITO粉的形貌分析 | 第64-65页 |
| ·分散剂对ITO粉体的影响 | 第65-67页 |
| ·不同Sn掺杂量对ITO粉体的影响 | 第67-69页 |
| ·反应温度对前驱体及ITO粉的影响 | 第69-71页 |
| ·铟离子浓度对前驱体及ITO粉的影响 | 第71-72页 |
| ·pH值对前驱体及ITO粉的影响 | 第72-74页 |
| ·煅烧温度对ITO粉体的影响 | 第74-78页 |
| ·煅烧时间对ITO粉体的影响 | 第78-79页 |
| ·本章小结 | 第79-81页 |
| 第五章 扩大试验 | 第81-85页 |
| ·实验原料与装置 | 第81页 |
| ·试验结果与分析 | 第81-83页 |
| ·资源回收与利用 | 第83页 |
| ·本章小节 | 第83-85页 |
| 第六章 结论与展望 | 第85-88页 |
| ·全文总结 | 第85-86页 |
| ·展望 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-96页 |
| 附录A | 第96页 |
