一维银纳米材料的模板合成及其电化学性能
| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-31页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·纳米线 | 第12-18页 |
| ·纳米线的性能 | 第12-14页 |
| ·纳米线的应用 | 第14-17页 |
| ·纳米线的制备方法 | 第17-18页 |
| ·模板合成法 | 第18-22页 |
| ·发展历史 | 第18-19页 |
| ·模板的种类 | 第19-20页 |
| ·模板合成纳米材料的方法 | 第20-22页 |
| ·纳米线的组装体系 | 第22-24页 |
| ·微流方法 | 第22页 |
| ·施加电场方法 | 第22页 |
| ·L-B膜方法 | 第22-23页 |
| ·分子梳方法 | 第23页 |
| ·模板法 | 第23-24页 |
| ·立题依据和研究内容 | 第24-26页 |
| ·本论文的立题依据 | 第24-25页 |
| ·研究内容 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-31页 |
| 第二章 氧化铝模板的制法与表征 | 第31-48页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·多孔AAO膜的结构 | 第31-35页 |
| ·阻挡型氧化膜和多孔型氧化膜 | 第31-33页 |
| ·多孔AAO氧化膜的构造模型 | 第33-35页 |
| ·氧化条件对多孔AAO膜的影响 | 第35-36页 |
| ·多孔AAO模板的形成机理 | 第36-39页 |
| ·Heber的胶体沉淀机理 | 第36-37页 |
| ·Parkhutik的稳态孔成长机理 | 第37-38页 |
| ·体膨胀应力模型 | 第38-39页 |
| ·多孔AAO模板的制备和表征 | 第39-45页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第39-40页 |
| ·制备工艺流程 | 第40-42页 |
| ·多孔阳极氧化铝（AAO）模板的表征 | 第42-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 第三章 交流电沉积与化学修复制备银纳米线 | 第48-55页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·实验部分 | 第49-50页 |
| ·仪器与试剂 | 第49页 |
| ·银纳米线的制备 | 第49-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-53页 |
| ·通过直接交流沉积制得的银纳米线 | 第50-51页 |
| ·经化学修复获得的银纳米线 | 第51-52页 |
| ·银纳米线TEM与SAED表征 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第四章 银纳米阵列电极的模板组装及其电化学行为 | 第55-60页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·实验部分 | 第56-57页 |
| ·仪器 | 第56页 |
| ·试剂 | 第56页 |
| ·银纳米阵列的制备 | 第56-57页 |
| ·银纳米阵列电极的组装 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-59页 |
| ·银纳米阵列电极FESEM表征 | 第57页 |
| ·银纳米阵列电极的电化学行为 | 第57-59页 |
| ·小结 | 第59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 第五章 银纳米棒的控制合成 | 第60-67页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·实验部分 | 第60-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-65页 |
| ·AAO模板与产物的SEM结构表征 | 第61-62页 |
| ·产物的TEM结构表征 | 第62-64页 |
| ·产物的XRD分析 | 第64-65页 |
| ·小结 | 第65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 硕士在读期间发表论文目录 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
