| 符号表 | 第1-10页 |
| 中文摘要 | 第10-14页 |
| Abstract | 第14-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-37页 |
| 第一节 引言 | 第17-23页 |
| 第二节 ZnO的材料特性 | 第23-25页 |
| 第三节 ZnO基稀磁半导体的研究进展 | 第25-28页 |
| 第四节 ZnO基稀磁半导体的应用前景 | 第28-31页 |
| 第五节 本文的研究动机和研究内容 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-37页 |
| 第二章 样品的制备技术与测量分析方法 | 第37-56页 |
| 第一节 分子束外延生长的制备技术 | 第37-47页 |
| 第二节 薄膜样品的测量分析方法 | 第47-56页 |
| ·反射高能电子衍射(RHEED) | 第47-48页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第48-50页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第50-51页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第51-53页 |
| ·交变梯度磁强计(AGM) | 第53-54页 |
| ·超导量子干涉仪(SQUID) | 第54-56页 |
| 第三章 Al_2O_3(0001)衬底上ZnO单晶薄膜的外延生长与表征 | 第56-64页 |
| 第一节 ZnO单晶薄膜的外延生长工艺 | 第57-59页 |
| 第二节 ZnO单晶薄膜的制备及其结构表征 | 第59-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第四章 Co掺杂ZnO稀磁半导体的外延生长与性能研究 | 第64-87页 |
| 第一节 引言 | 第64-65页 |
| 第二节 Zn_(1-x)Co_xO单晶薄膜的制备过程 | 第65-70页 |
| 第三节 薄膜结构、成分、光学与室温铁磁性研究 | 第70-84页 |
| ·结构特性 | 第70-77页 |
| ·成分及化学价态特性 | 第77-78页 |
| ·光学特性 | 第78-79页 |
| ·磁特性 | 第79-81页 |
| ·结果与讨论 | 第81-84页 |
| 第四节 小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-87页 |
| 第五章 Mn掺杂ZnO稀磁半导体的外延生长与性能研究 | 第87-110页 |
| 第一节 引言 | 第87-88页 |
| 第二节 Zn_(1-x)Mn_xO单晶薄膜的制备及退火过程 | 第88-94页 |
| 第三节 薄膜性质与退火后铁磁性的起源研究 | 第94-107页 |
| ·结构特性 | 第94-99页 |
| ·磁特性 | 第99-100页 |
| ·输运特性 | 第100-101页 |
| ·光学特性 | 第101-105页 |
| ·结果与讨论 | 第105-107页 |
| 第四节 小结 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-110页 |
| 第六章 总结与展望 | 第110-116页 |
| 第一节 论文工作的主要结论 | 第110-113页 |
| 第二节 论文的创新之处 | 第113-114页 |
| 第三节 下一步的工作展望 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-116页 |
| 在学期间发表的论文 | 第116-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 英文论文一 | 第118-121页 |
| 英文论文二 | 第121-125页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第125页 |
