| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·TiO_2薄膜的性质及应用 | 第8-10页 |
| ·TiO_2的晶格结构特征 | 第8-9页 |
| ·TiO_2纳米薄膜的应用 | 第9-10页 |
| ·TiO_2光催化反应原理 | 第10-12页 |
| ·影响TiO_2光催化的因素 | 第12-14页 |
| ·晶型的影响 | 第12-13页 |
| ·粒径的影响 | 第13页 |
| ·晶格缺陷的影响 | 第13-14页 |
| ·提高TiO_2光催化活性的途径 | 第14-18页 |
| ·贵金属沉积 | 第14-15页 |
| ·复合半导体 | 第15-16页 |
| ·离子掺杂 | 第16-17页 |
| ·光敏化 | 第17-18页 |
| ·表面还原处理 | 第18页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| 第二章 TiO_2薄膜的制备及结构性能测试 | 第20-29页 |
| ·直流磁控溅射原理 | 第20-22页 |
| ·TiO_2薄膜的制备及实验过程 | 第22-24页 |
| ·直流磁控溅射实验装置 | 第22-23页 |
| ·薄膜制备过程 | 第23-24页 |
| ·TiO_2薄膜的结构性能测试 | 第24-29页 |
| ·薄膜物相结构的测试 | 第25-26页 |
| ·薄膜表面形貌的测试 | 第26页 |
| ·薄膜光吸收性能的测试 | 第26-27页 |
| ·薄膜光催化性能的测试 | 第27页 |
| ·薄膜X射线光电子能谱的测试 | 第27-29页 |
| 第三章 氧分压对TiO_2薄膜性能的影响 | 第29-37页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·氧分压对TiO_2薄膜微观结构与光吸收性能的影响 | 第29-36页 |
| ·表面形貌 | 第30-31页 |
| ·XRD分析 | 第31-32页 |
| ·化学组分 | 第32-34页 |
| ·光吸收性能 | 第34-35页 |
| ·光催化性能 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 金属掺杂对TiO_2薄膜性能的影响 | 第37-58页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·掺Cu对TiO_2薄膜性能的影响 | 第37-42页 |
| ·表面形貌 | 第37-38页 |
| ·XRD分析 | 第38-39页 |
| ·光吸收性能 | 第39-40页 |
| ·光催化性能 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| ·掺Ni对TiO_2薄膜性能的影响 | 第42-46页 |
| ·表面形貌 | 第42-43页 |
| ·XRD分析 | 第43-44页 |
| ·光吸收性能 | 第44-45页 |
| ·光催化性能 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46页 |
| ·掺W对TiO_2薄膜性能的影响 | 第46-50页 |
| ·表面形貌 | 第46-47页 |
| ·XRD分析 | 第47-48页 |
| ·光吸收性能 | 第48-49页 |
| ·光催化性能 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50页 |
| ·掺Mn对TiO_2薄膜性能的影响 | 第50-53页 |
| ·表面形貌 | 第51页 |
| ·XRD分析 | 第51-52页 |
| ·光吸收性能 | 第52-53页 |
| ·光催化性能 | 第53页 |
| ·小结 | 第53页 |
| ·掺Ag对TiO_2薄膜性能的影响 | 第53-57页 |
| ·表面形貌 | 第54页 |
| ·XRD分析 | 第54-55页 |
| ·光吸收性能 | 第55-56页 |
| ·光催化性能 | 第56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 总结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第66页 |