| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| ·室内污染气体的危害及清除方法概况 | 第8-11页 |
| ·室内污染气体种类及危害概况 | 第8-9页 |
| ·室内污染气体的清除方法研究进展 | 第9-11页 |
| ·炭吸附法 | 第9-10页 |
| ·膜分离法 | 第10页 |
| ·负离子空气净化 | 第10页 |
| ·低温等离子体技术 | 第10页 |
| ·生物技术 | 第10-11页 |
| ·光催化技术及其在空气净化中的应用 | 第11-16页 |
| ·光催化技术基础 | 第11-12页 |
| ·光催化净化空气研究概况 | 第12-16页 |
| ·TiO_2和羟基磷灰石光催化作用研究概况 | 第16-20页 |
| ·TiO_2光催化作用研究进展 | 第16-18页 |
| ·羟基磷灰石光催化作用研究进展 | 第18-20页 |
| ·本课题的研究目的、构思、内容与创新点 | 第20-22页 |
| ·研究目的 | 第20页 |
| ·研究构思 | 第20页 |
| ·研究内容 | 第20-21页 |
| ·创新点 | 第21-22页 |
| 第二章 实验方法 | 第22-28页 |
| ·光催化剂的设计 | 第22-23页 |
| ·光催化剂的制备方法 | 第23-24页 |
| ·光催化剂制备方法的选择 | 第23页 |
| ·主要原料与试剂(表2-1) | 第23页 |
| ·光催化剂的制备过程 | 第23-24页 |
| ·光催化剂制备过程的ICP分析 | 第24页 |
| ·光催化剂组成及结构表征 | 第24-26页 |
| ·XRD分析 | 第24页 |
| ·Raman分析 | 第24页 |
| ·固体红外光谱分析 | 第24页 |
| ·比表面积测定 | 第24页 |
| ·TEM分析 | 第24-25页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱(UV-vis DRS) | 第25页 |
| ·化学吸附性能表征程序升温脱附－质谱（TPD-MS）实验 | 第25-26页 |
| ·光催化降解反应性能评价实验 | 第26-28页 |
| ·光催化降解反应-色谱实验 | 第26-27页 |
| ·光催化降解反应性能的评价 | 第27-28页 |
| 第三章 HAP及THAP-x的组成及结构 | 第28-38页 |
| ·HAP的组成及结构分析 | 第28-31页 |
| ·HAP材料列表 | 第28页 |
| ·HAP的形态与结构 | 第28-30页 |
| ·HAP的化学构造 | 第30-31页 |
| ·HAP的表面构造模型 | 第31页 |
| ·THAP系列光催化剂组成与结构分析 | 第31-37页 |
| ·THAP系列光催化剂列表 | 第31页 |
| ·THAP系列光催化剂制备过程ICP分析 | 第31-33页 |
| ·THAP系列光催化剂比表面与粒度 | 第33-34页 |
| ·THAP系列光催化剂的形态与结构 | 第34-36页 |
| ·THAP系列光催化剂的化学构造 | 第36-37页 |
| ·THAP系列光催化剂的表面构造模型 | 第37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第四章 固体材料的光响应性能和能带结构 | 第38-43页 |
| ·不同配比催化剂的光响应性能 | 第38-39页 |
| ·Eg值的测定及能带结构的推测 | 第39-42页 |
| ·Eg值的测定 | 第39页 |
| ·THAP-x系列催化剂的能带结构推测 | 第39-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第五章 光催化材料的化学吸附性能 | 第43-50页 |
| ·醛类气体在THAP-x表面的化学吸附 | 第43-45页 |
| ·O_2在THAP-x表面的化学吸附(以THAP-0.2 为例) | 第45-46页 |
| ·H_2O在THAP-x表面的化学吸附 | 第46-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第六章 THAP-x催化剂的反应性能评价 | 第50-57页 |
| ·不同组成THAP-x催化剂的光催化反应结果 | 第50-51页 |
| ·反应条件对光催化反应性能的影响 | 第51-53页 |
| ·反应温度对光降解反应性能的影响 | 第51-52页 |
| ·气体停留时间对光降解反应性能的影响 | 第52-53页 |
| ·催化剂寿命的初步考察 | 第53-54页 |
| ·光催化反应机理的初步探讨 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 第七章 总结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 附录 | 第67-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |