摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-11页 |
第1章 绪论 | 第11-35页 |
·描述电子束团的参数. | 第11-16页 |
·相空间分布. | 第12-13页 |
·发射度. | 第13-16页 |
·亮度. | 第16页 |
·用于汤姆逊散射源X射线源及X射线FEL的电子枪和注入器. | 第16-23页 |
·汤姆逊散射X射线源对电子束品质的要求. | 第17-18页 |
·短波长FEL对电子束品质的要求. | 第18-20页 |
·能够用于汤姆逊散射X射线源和X射线FEL的电子枪和注入器. | 第20-22页 |
·注入器发射度对于汤姆逊散射X射线源和短波长FEL的重要意义. | 第22-23页 |
·光阴极微波电子注入器的发展现状. | 第23-32页 |
·论文工作的主要内容及创新点. | 第32-35页 |
·论文工作的主要内容. | 第32-34页 |
·论文工作的创新点. | 第34-35页 |
第2 章 金属阴极的光电发射与热发射度 | 第35-51页 |
·光电发射与热发射度. | 第35-42页 |
·金属材料的光学吸收和反射. | 第35-36页 |
·体发射及其发射模型. | 第36-39页 |
·体发射情形下的热发射度. | 第39-41页 |
·表面发射对热发射度的影响. | 第41-42页 |
·表面粗糙度造成的热发射度. | 第42-50页 |
·小结. | 第50-51页 |
第3章 光阴极微波电子注入器发射度的构成与发射度补偿 | 第51-77页 |
·光阴极微波电子注入器理论介绍. | 第51-58页 |
·纵向运动. | 第51-55页 |
·光阴极微波电子注入器纵向运动基本理论. | 第51-54页 |
·空间电荷效应对纵向运动的影响. | 第54-55页 |
·横向运动基本理论. | 第55-58页 |
·横向运动基本理论. | 第55-56页 |
·射频发射度. | 第56-57页 |
·空间电荷效应发射度. | 第57-58页 |
·空间电荷占优相对论电子束在注入器束线中发射度的变化. | 第58-75页 |
·相对论电子束的横向运动及发射度补偿介绍. | 第58-62页 |
·关联投影发射度和关联切片发射度的近似表达式. | 第62-63页 |
·关联投影发射度和关联切片发射度在束线中的变化. | 第63-66页 |
·关联切片发射度在漂移段中变化. | 第66-67页 |
·关联切片发射度在IE加速段中的变化. | 第67-68页 |
·解析结果与Parmela计算结果的比较. | 第68-70页 |
·波裂和能散度对发射度变化过程的影响. | 第70-74页 |
·一阶解析分析应用到与LCLS束线上. | 第74-75页 |
·小结. | 第75-77页 |
第4 章 进一步降低光阴极注入器发射度的探索性模拟计算 | 第77-83页 |
·注入器优化计算的模型及准则. | 第78-79页 |
·激光束为三维均匀椭球时能达到的最小发射度. | 第79-80页 |
·场强高于143MV/m情形下的能达到的最小发射度 | 第80-81页 |
·小结. | 第81-83页 |
第5 章 1.6Cell微波电子枪微波特性及测量 | 第83-104页 |
·BNL/KEK/SHI型1.6Cell微波电子枪微波特性计算 | 第83-93页 |
·基本微波特性参数. | 第83页 |
·腔链耦合模型. | 第83-86页 |
·阴极盘真空密封圈附近的场分布. | 第86-87页 |
·波导到整腔的耦合. | 第87-88页 |
·波导非对称性造成的发射度增长. | 第88-93页 |
·腔体机械结构设计及加工. | 第93-95页 |
·1.6Cell微波电子枪调谐. | 第95-101页 |
·1.6Cell微波电子枪冷测调谐步骤及目标. | 第95-98页 |
·1.6Cell微波电子枪微波特性测量. | 第98-101页 |
·1.6Cell微波电子枪焊接. | 第101-102页 |
·小结. | 第102-104页 |
第6 章 热测实验台及实验结果 | 第104-110页 |
·热测实验台. | 第104-105页 |
·老练过程及结果. | 第105-109页 |
·小结. | 第109-110页 |
第7 章 结论 | 第110-113页 |
参考文献 | 第113-119页 |
致谢 | 第119-120页 |
附录A AFM表面形貌完整结果 | 第120-124页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第124页 |