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低发射度光阴极微波电子注入器理论及初步实验研究

摘要第1-5页
Abstract第5-11页
第1章 绪论第11-35页
   ·描述电子束团的参数.第11-16页
     ·相空间分布.第12-13页
     ·发射度.第13-16页
     ·亮度.第16页
   ·用于汤姆逊散射源X射线源及X射线FEL的电子枪和注入器.第16-23页
     ·汤姆逊散射X射线源对电子束品质的要求.第17-18页
     ·短波长FEL对电子束品质的要求.第18-20页
     ·能够用于汤姆逊散射X射线源和X射线FEL的电子枪和注入器.第20-22页
     ·注入器发射度对于汤姆逊散射X射线源和短波长FEL的重要意义.第22-23页
   ·光阴极微波电子注入器的发展现状.第23-32页
   ·论文工作的主要内容及创新点.第32-35页
     ·论文工作的主要内容.第32-34页
     ·论文工作的创新点.第34-35页
第2 章 金属阴极的光电发射与热发射度第35-51页
   ·光电发射与热发射度.第35-42页
     ·金属材料的光学吸收和反射.第35-36页
     ·体发射及其发射模型.第36-39页
     ·体发射情形下的热发射度.第39-41页
     ·表面发射对热发射度的影响.第41-42页
   ·表面粗糙度造成的热发射度.第42-50页
   ·小结.第50-51页
第3章 光阴极微波电子注入器发射度的构成与发射度补偿第51-77页
   ·光阴极微波电子注入器理论介绍.第51-58页
     ·纵向运动.第51-55页
       ·光阴极微波电子注入器纵向运动基本理论.第51-54页
       ·空间电荷效应对纵向运动的影响.第54-55页
     ·横向运动基本理论.第55-58页
       ·横向运动基本理论.第55-56页
       ·射频发射度.第56-57页
       ·空间电荷效应发射度.第57-58页
   ·空间电荷占优相对论电子束在注入器束线中发射度的变化.第58-75页
     ·相对论电子束的横向运动及发射度补偿介绍.第58-62页
     ·关联投影发射度和关联切片发射度的近似表达式.第62-63页
     ·关联投影发射度和关联切片发射度在束线中的变化.第63-66页
     ·关联切片发射度在漂移段中变化.第66-67页
     ·关联切片发射度在IE加速段中的变化.第67-68页
     ·解析结果与Parmela计算结果的比较.第68-70页
     ·波裂和能散度对发射度变化过程的影响.第70-74页
     ·一阶解析分析应用到与LCLS束线上.第74-75页
   ·小结.第75-77页
第4 章 进一步降低光阴极注入器发射度的探索性模拟计算第77-83页
   ·注入器优化计算的模型及准则.第78-79页
   ·激光束为三维均匀椭球时能达到的最小发射度.第79-80页
   ·场强高于143MV/m情形下的能达到的最小发射度第80-81页
   ·小结.第81-83页
第5 章 1.6Cell微波电子枪微波特性及测量第83-104页
   ·BNL/KEK/SHI型1.6Cell微波电子枪微波特性计算第83-93页
     ·基本微波特性参数.第83页
     ·腔链耦合模型.第83-86页
     ·阴极盘真空密封圈附近的场分布.第86-87页
     ·波导到整腔的耦合.第87-88页
     ·波导非对称性造成的发射度增长.第88-93页
   ·腔体机械结构设计及加工.第93-95页
   ·1.6Cell微波电子枪调谐.第95-101页
     ·1.6Cell微波电子枪冷测调谐步骤及目标.第95-98页
     ·1.6Cell微波电子枪微波特性测量.第98-101页
   ·1.6Cell微波电子枪焊接.第101-102页
   ·小结.第102-104页
第6 章 热测实验台及实验结果第104-110页
   ·热测实验台.第104-105页
   ·老练过程及结果.第105-109页
   ·小结.第109-110页
第7 章 结论第110-113页
参考文献第113-119页
致谢第119-120页
附录A AFM表面形貌完整结果第120-124页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第124页

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