多孔硅气体传感器的设计和实验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·发光多孔硅及其研究进展 | 第10-13页 |
| ·多孔硅简介 | 第10-11页 |
| ·多孔硅的各种制备方法 | 第11-12页 |
| ·多孔硅的基本性能 | 第12-13页 |
| ·研究多孔硅传感技术的重要性 | 第13-15页 |
| ·课题的目的及意义 | 第15-19页 |
| ·课题的意义 | 第15-16页 |
| ·多孔硅传感技术的研究现状 | 第16-19页 |
| ·多孔硅传感技术在实际应用中存在的问题 | 第19页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第19-21页 |
| 第2章 多孔硅光学及传感特性的理论基础 | 第21-35页 |
| ·多孔硅光学常数的计算方法 | 第21-27页 |
| ·光学常数的定义 | 第21-24页 |
| ·光学常数之间的关系 | 第24-25页 |
| ·薄膜光学常数的计算方法 | 第25页 |
| ·反射谱法确定多孔硅光学常数的步骤 | 第25-27页 |
| ·多孔硅 Bragg反射镜和微腔 | 第27-29页 |
| ·多孔硅基多层膜光学常数的计算方法 | 第29-30页 |
| ·传输矩阵方法 | 第29-30页 |
| ·量子盒模型 | 第30页 |
| ·多孔硅气体测量机理 | 第30-32页 |
| ·正交实验方法 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第3章 多孔硅光学常数的实验研究 | 第35-56页 |
| ·多孔硅的制备实验 | 第35-40页 |
| ·脉冲电化学腐蚀法制备多孔硅的系统原理图 | 第35-38页 |
| ·实验参数设定 | 第38页 |
| ·多孔硅的制备过程 | 第38-40页 |
| ·多孔硅的反射谱测量系统 | 第40-44页 |
| ·多孔硅表面形貌分析实验 | 第44-45页 |
| ·实验结果与分析 | 第45-55页 |
| ·多孔硅的表面形貌实验分析 | 第45-49页 |
| ·多孔硅光学特性的研究 | 第49-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第4章 多孔硅气体传感器的仿真和实验研究 | 第56-77页 |
| ·多孔硅微腔反射谱的仿真和实验 | 第56-58页 |
| ·多孔硅气体传感器的仿真实验 | 第58-62页 |
| ·多孔硅气体传感器的实验研究 | 第62-72页 |
| ·多孔硅微腔的制备 | 第63页 |
| ·多孔硅气体测量系统设计 | 第63-64页 |
| ·实验 | 第64-66页 |
| ·实验结果与分析 | 第66-72页 |
| ·数据处理与定标 | 第72-74页 |
| ·误差分析 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-86页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 作者简介 | 第88页 |
