ZnO薄膜晶体管有源层的磁控溅射制备研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 引言 | 第9-24页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第9-10页 |
| ·ZnO 晶体的结构特性 | 第10-12页 |
| ·ZnO 薄膜的应用 | 第12-22页 |
| ·本研究的主要目的和意义 | 第22-24页 |
| 2 溅射机理及薄膜的生长过程 | 第24-33页 |
| ·溅射现象及其特点 | 第24-25页 |
| ·溅射原理 | 第25-26页 |
| ·溅射特性 | 第26-28页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第28-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 3 ZnO TFT 的设计 | 第33-39页 |
| ·栅绝缘介质层 | 第34页 |
| ·TFT 沟道宽度和长度 | 第34页 |
| ·TFT 器件结构及寄生电容 | 第34-39页 |
| 4 ZnO 薄膜的制备 | 第39-46页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验方法 | 第39-46页 |
| 5 ZnO 薄膜的测试及结果分析 | 第46-56页 |
| ·透射率的测试 | 第46-48页 |
| ·衬底温度对薄膜性能的影响 | 第48-50页 |
| ·溅射气压对薄膜性能的影响 | 第50-51页 |
| ·不同氩氧比对薄膜性能的影响 | 第51-52页 |
| ·ZnO 薄膜的组织形貌分析 | 第52-56页 |
| 6 结论 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第62页 |
